Në artikullin e mëparshëm, folëm për karakteristikat e veshjeve me spërkatje, dhe ky artikull do të vazhdojë të shpjegojë karakteristikat e veshjeve me spërkatje.
(4) Temperatura e substratit është e ulët. Shkalla e spërkatjes së spërkatjes është e lartë sepse përqendrimi i elektroneve është i lartë brenda rajonit të fushës magnetike të objektivit të katodës, domethënë, në një zonë të vogël lokale në pistën e shkarkimit të objektivit, dhe jashtë rajonit të veprimit magnetik, veçanërisht pranë sipërfaqes së substratit larg fushës magnetike, përqendrimi i elektroneve është shumë më i ulët për shkak të divergjencës, dhe madje mund të jetë më i ulët se ai i spërkatjes binare (sepse presioni i gazit operativ i të dyve është një rend madhësie i ndryshëm). Prandaj, në kushtet e spërkatjes, përqendrimi i elektroneve në sipërfaqen e substratit të bombarduar është shumë më i ulët se ai në spërkatjen sekondare të zakonshme, dhe rritja e tepërt e temperaturës së substratit shmanget për shkak të uljes së numrit të elektroneve në substratin incident. Përveç kësaj, në metodën e spërkatjes, anoda e pajisjes së spërkatjes mund të vendoset rreth katodës, dhe korniza e substratit mund të jetë gjithashtu në një potencial të pezulluar, në mënyrë që elektronet të mund të rrjedhin larg përmes anodës pa kaluar nëpër kornizën e substratit të tokëzuar, duke zvogëluar kështu elektronet me energji të lartë që bombardojnë substratin e veshur, duke zvogëluar rritjen e nxehtësisë së substratit të shkaktuar nga incidenca e elektroneve dhe duke zvogëluar shumë nxehtësinë e shkaktuar nga bombardimi sekondar i elektroneve të substratit.
(5) Gdhendje e pabarabartë e objektivit. Në objektivin tradicional me spërkatje, përdoret një fushë magnetike jo-homogjene, kështu që plazma do të prodhojë një efekt konvergjence lokale, i cili do ta bëjë shkallën e gdhendjes me spërkatje të pozicionit lokal në objektiv jashtëzakonisht të lartë, dhe rezultati do të jetë gdhendje e pabarabartë e konsiderueshme në objektiv. Shkalla e shfrytëzimit të materialeve të objektivit është përgjithësisht rreth 30%. Për të përmirësuar shkallën e shfrytëzimit të materialit të objektivit, mund të merren masa të ndryshme përmirësimi, të tilla si përmirësimi i formës dhe shpërndarjes së fushës magnetike të objektivit, në mënyrë që magneti të lëvizë brenda katodës së objektivit.
(6) Spërkatja e objektivit me material magnetik është e vështirë. Nëse objektivi me spërkatje është bërë nga një material me përshkueshmëri të lartë magnetike, linjat e fushës magnetike do të kalojnë drejtpërdrejt e kështu me radhë. Një qark i shkurtër magnetik ndodh brenda objektivit, duke e bërë të vështirë shkarkimin. Për të gjeneruar një fushë magnetike hapësinore, janë kryer studime të ndryshme, për shembull, ngopja e fushës magnetike brenda objektivit, duke lënë shumë boshllëqe në objektiv për ta nxitur atë të gjenerojë më shumë magnetizëm rrjedhjeje për të rritur temperaturën e objektivit, ose për të zvogëluar përshkueshmërinë magnetike të objektivit.
– Ky artikull është publikuar ngaprodhuesi i makinës së veshjes me vakumGuangdong Zhenhua
Koha e postimit: 08 shtator 2023