په تیرو مقالو کې، موږ د سپټرینګ کوټینګ ځانګړتیاو په اړه خبرې وکړې، او دا مقاله به د سپټرینګ کوټینګ ځانګړتیاوې تشریح کولو ته دوام ورکړي.
(۴) د سبسټریټ تودوخه ټیټه ده. د سپټرینګ د سپټرینګ کچه لوړه ده ځکه چې د الکترونونو غلظت د کیتوډ هدف د مقناطیسي ساحې په سیمه کې لوړ دی، دا د هدف د خارجیدو په رن وی کې په یوه کوچنۍ سیمه کې، او د مقناطیسي عمل سیمې څخه بهر، په ځانګړي توګه د سبسټریټ سطحې ته نږدې د مقناطیسي ساحې څخه لرې، د الیکترون غلظت د انحراف له امله خورا ټیټ دی، او حتی ممکن د بائنری سپټرینګ په پرتله ټیټ وي (ځکه چې د دواړو عملیاتي ګاز فشار د شدت ترتیب توپیر لري). له همدې امله، د سپټرینګ شرایطو لاندې، د بمبار شوي سبسټریټ په سطحه د الکترون غلظت د عادي ثانوي سپټرینګ په پرتله خورا ټیټ دی، او د سبسټریټ تودوخې کې د ډیر زیاتوالي څخه د پیښې سبسټریټ کې د الیکترونونو شمیر کمیدو له امله مخنیوی کیږي. برسېره پردې، د سپټرینګ میتود کې، د سپټرینګ وسیلې انود د کیتوډ شاوخوا موقعیت لري، او د سبسټریټ چوکاټ هم کیدی شي او په تعلیق شوي ظرفیت کې وي، نو الکترونونه کولی شي د انود له لارې تیر شي پرته له دې چې د ځمکني سبسټریټ چوکاټ څخه تیر شي، په دې توګه د لوړ انرژۍ الکترونونه کموي چې پلیټ شوي سبسټریټ بمبار کوي، د الیکترون پیښو له امله د سبسټریټ تودوخې زیاتوالی کموي، او د سبسټریټ د ثانوي الیکترون بمبارۍ له امله رامینځته شوي تودوخه خورا کموي.
(۵) د هدف غیر مساوي ایچینګ. په دودیز سپټرینګ هدف کې، یو غیر همجنس مقناطیسي ساحه کارول کیږي، نو پلازما به د محلي همغږۍ اغیز تولید کړي، کوم چې به په هدف کې د محلي موقعیت د سپټرینګ ایچینګ کچه خورا لویه کړي، او پایله به یې په هدف کې د پام وړ غیر مساوي ایچینګ وي. د هدف موادو د کارولو کچه عموما شاوخوا 30٪ ده. د هدف موادو د کارولو کچه ښه کولو لپاره، د ښه والي مختلف اقدامات ترسره کیدی شي، لکه د هدف مقناطیسي ساحې شکل او ویش ښه کول، ترڅو مقناطیس د هدف کیتوډ دننه حرکت وکړي.
(6) د مقناطیسي موادو هدف سپټر کول ستونزمن دي. که چیرې د سپټر کولو هدف د لوړ مقناطیسي نفوذ وړتیا لرونکي موادو څخه جوړ شوی وي، د مقناطیسي ساحې کرښې به مستقیم تیریږي او داسې نور. د هدف دننه مقناطیسي شارټ سرکټ رامینځته کیږي، چې خارجیدل یې ستونزمن کوي. د ځایي مقناطیسي ساحې رامینځته کولو لپاره، مختلف مطالعات ترسره شوي، د مثال په توګه، د هدف دننه مقناطیسي ساحه سیر کول، په هدف کې ډیری تشې پریښودل ترڅو دا وهڅوي چې د ډیر لیک مقناطیسیت تولید کړي ترڅو د هدف تودوخه زیاته کړي، یا د هدف مقناطیسي نفوذ کم کړي.
- دا مقاله د لخوا خپره شوې دهد ویکیوم کوټینګ ماشین جوړونکیګوانګډونګ ژینوا
د پوسټ وخت: سپتمبر-۰۸-۲۰۲۳