GX600

O equipamento adota uma estrutura de porta frontal vertical e layout em cluster. Pode ser equipado com fontes de evaporação para metais e diversos materiais orgânicos, e pode evaporar wafers de silício de várias especificações. Equipado com sistema de alinhamento de precisão, o revestimento é estável e apresenta boa repetibilidade.
O equipamento de revestimento GX600 permite a evaporação precisa, uniforme e controlada de materiais orgânicos emissores de luz ou materiais metálicos sobre o substrato. Apresenta vantagens como formação de filme simples, alta pureza e alta compacidade. O sistema de monitoramento automático em tempo real da espessura do filme garante a repetibilidade e a estabilidade do processo. Além disso, possui função de autofusão, reduzindo a dependência da habilidade do operador.
O equipamento pode ser aplicado a materiais metálicos como Cu, Al, Co, Cr, Au, Ag, Ni, Ti e outros, permitindo o revestimento com filmes metálicos, filmes de camada dielétrica, filmes IMD, etc. É utilizado principalmente na indústria de semicondutores, em aplicações como dispositivos de potência e revestimento de substratos para encapsulamento traseiro de semicondutores.