Cet équipement, doté d'une porte frontale verticale et d'une disposition en grappes, peut être équipé de sources d'évaporation pour métaux et divers matériaux organiques, et permet l'évaporation de plaquettes de silicium de différentes dimensions. Grâce à son système d'alignement de précision, le revêtement est stable et présente une excellente répétabilité.
L'équipement de revêtement GX600 permet d'évaporer avec précision, uniformité et contrôle des matériaux électroluminescents organiques ou des matériaux métalliques sur un substrat. Il offre une formation de film simple, une pureté élevée et une grande compacité. Le système de contrôle automatique en temps réel de l'épaisseur du film garantit la répétabilité et la stabilité du procédé. Doté d'une fonction d'autofusion, il réduit la dépendance à l'opérateur.
Cet équipement peut être appliqué au Cu, Al, Co, Cr, Au, Ag, Ni, Ti et à d'autres matériaux métalliques, et peut être revêtu d'un film métallique, d'un film diélectrique, d'un film IMD, etc. Il est principalement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs, notamment pour les dispositifs de puissance, le revêtement de substrats d'encapsulation arrière de semi-conducteurs, etc.
| GX600 | GX900 |
| φ600*800(mm) | φ900*H1050(mm) |