GX600

O equipamento adota estrutura de porta frontal vertical e layout de cluster. Pode ser equipado com fontes de evaporação para metais e diversos materiais orgânicos, podendo evaporar wafers de silício de diversas especificações. Equipado com sistema de alinhamento de precisão, o revestimento é estável e possui boa repetibilidade.
O equipamento de revestimento GX600 pode evaporar de forma precisa, uniforme e controlada materiais orgânicos emissores de luz ou materiais metálicos sobre o substrato. Possui as vantagens de formação de filme simples, alta pureza e alta compactação. O sistema de monitoramento da espessura do filme totalmente automático em tempo real garante a repetibilidade e a estabilidade do processo. Possui função de autofusão para reduzir a dependência da habilidade do operador.
O equipamento pode ser aplicado em Cu, Al, Co, Cr, Au, Ag, Ni, Ti e outros materiais metálicos, e pode ser revestido com filme metálico, filme de camada dielétrica, filme IMD, etc. É usado principalmente na indústria de semicondutores, como dispositivos de energia, revestimento de substrato de embalagem traseira de semicondutores, etc.