1. Die Werkstückabweichung ist gering
Durch den Einbau einer Vorrichtung zur Steigerung der Ionisierungsrate wird die Entladestromdichte erhöht und die Vorspannung auf 0,5 bis 1 kV reduziert.
Das durch übermäßigen Beschuss mit hochenergetischen Ionen verursachte Rückspritzen und die Schädigungswirkung auf die Werkstückoberfläche werden reduziert.
2. Erhöhte Plasmadichte
Es wurden verschiedene Maßnahmen zur Förderung der Stoßionisation eingeführt, wodurch die Metallionisationsrate von 3 % auf über 15 % gesteigert werden konnte. Die Dichte von Chinonionen und hochenergetischen neutralen Atomen, Stickstoffionen, hochenergetischen aktiven Atomen und aktiven Gruppen in der Beschichtungskammer wurde erhöht, was die Reaktion zur Bildung von Verbindungen begünstigt. Mit den oben genannten verbesserten Glimmentladungs-Ionenbeschichtungstechnologien konnten TN-Hartschichtschichten durch Reaktionsabscheidung bei höheren Plasmadichten erzeugt werden. Da es sich jedoch um Glimmentladungsverfahren handelt, ist die Entladungsstromdichte (im mA/cm²-Bereich) und die Gesamtplasmadichte nicht ausreichend hoch, was die Reaktionsabscheidung von Verbindungsbeschichtungen erschwert.
3. Der Beschichtungsbereich der Punktverdampfungsquelle ist gering.
Verschiedene verbesserte Ionenbeschichtungstechnologien nutzen Elektronenstrahlverdampfungsquellen und Gantu als Punktverdampfungsquelle, die auf einen bestimmten Intervall oberhalb von Gantu für die Reaktionsabscheidung beschränkt ist, sodass die Produktivität gering, der Prozess schwierig und die Industrialisierung schwierig ist.
4. Elektronischer Hochdruckbetrieb der Pistole
Die Spannung der Elektronenkanone beträgt 6~30 kV und die Werkstückvorspannung 0,5~3 kV, was zu den Hochspannungsoperationen zählt und gewisse Sicherheitsrisiken birgt.
— Dieser Artikel wurde von Guangdong Zhenhua Technology veröffentlicht.Hersteller von optischen Beschichtungsmaschinen.
Veröffentlichungsdatum: 12. Mai 2023