Mga komon nga bahin sa gipauswag nga teknolohiya sa glow discharge ion coating

1. Ubos ang bias sa workpiece

Tungod sa pagdugang og device aron madugangan ang ionization rate, ang discharge current density motaas, ug ang bias voltage mokunhod ngadto sa 0.5~1kV.

Ang backsputtering nga gipahinabo sa sobra nga pagpamomba sa mga high-energy ions ug ang epekto sa kadaot sa nawong sa workpiece mikunhod.

2. Nadugangan nga densidad sa plasma

Nagkalain-laing mga lakang ang gidugang aron mapalambo ang collision ionization, ug ang metal ionization rate misaka gikan sa 3% ngadto sa kapin sa 15%. Ang densidad sa mga chin ions ug high-energy neutral atoms, nitrogen ions, high-energy active atoms ug active groups sa coating chamber misaka, nga makatabang sa reaksyon sa pagporma og mga compound. Ang nahisgutang nagkalain-laing enhanced glow discharge ion coating technologies nakahimo sa pagkuha og TN hard film layers pinaagi sa reaction deposition sa mas taas nga plasma densities, apan tungod kay kini nahisakop sa glow discharge type, ang discharge current density dili igo kataas (mA/cm2 level gihapon), ug ang kinatibuk-ang plasma density dili igo kataas, ug ang proseso sa reaction deposition compound coating lisod.

3. Gamay ra ang gilapdon sa coating sa point evaporation source

Ang nagkalain-laing gipauswag nga mga teknolohiya sa ion coating naggamit sa mga tinubdan sa pag-alisngaw sa electron beam, ug ang gantu isip usa ka tinubdan sa pag-alisngaw sa punto, nga limitado sa usa ka piho nga agwat ibabaw sa gantu alang sa pagdeposito sa reaksyon, busa ang produktibidad ubos, ang proseso lisud, ug lisud ang industriyalisahon.

4. Operasyon sa taas nga presyur sa elektronikong pusil

Ang boltahe sa electron gun kay 6~30kV, ug ang boltahe sa bias sa workpiece kay 0.5~3kV, nga nahisakop sa high-voltage operation ug adunay pipila ka peligro sa kaluwasan.

——Kini nga artikulo gipagawas sa Guangdong Zhenhua Technology, usa katiggama sa mga makina sa optical coating.