Fitur umum tina téknologi palapis ion pelepasan cahaya anu ditingkatkeun

1. Bias benda kerja rendah

Kusabab ditambahna alat pikeun ningkatkeun laju ionisasi, kapadetan arus debit ningkat, sareng tegangan bias dikirangan janten 0,5 ~ 1 kV.

Backsputtering anu disababkeun ku pamboman ion énergi tinggi anu kaleuleuwihi sareng pangaruh karusakan dina permukaan benda kerja bakal ngirangan.

2. Kanaékan kapadetan plasma

Rupa-rupa ukuran pikeun ngamajukeun ionisasi tabrakan parantos ditambahkeun, sareng laju ionisasi logam parantos ningkat ti 3% janten langkung ti 15%. Kapadatan ion dagu sareng atom nétral énergi tinggi, ion nitrogén, atom aktif énergi tinggi sareng gugus aktif dina ruang palapis ningkat, anu ngadukung réaksi pikeun ngabentuk sanyawa. Rupa-rupa téknologi palapis ion pelepasan cahaya anu ditingkatkeun di luhur parantos tiasa kéngingkeun lapisan pilem teuas TN ku cara déposisi réaksi dina kapadetan plasma anu langkung luhur, tapi kusabab kagolong kana jinis pelepasan cahaya, kapadetan arus pelepasan henteu cekap luhur (masih tingkat mA/cm2), sareng kapadetan plasma sacara umum henteu cekap luhur, sareng prosés palapis sanyawa déposisi réaksi hésé.

3. Rentang palapis tina sumber penguapan titik leutik

Rupa-rupa téknologi palapis ion anu ditingkatkeun ngagunakeun sumber penguapan sinar éléktron, sareng gantu salaku sumber penguapan titik, anu diwatesan ku interval anu tangtu di luhur gantu pikeun déposisi réaksi, janten produktivitasna rendah, prosésna hésé, sareng hésé diindustrialisasi.

4. Operasi tekanan tinggi bedil éléktronik

Tegangan bedil éléktron nyaéta 6 ~ 30kV, sareng tegangan bias benda kerja nyaéta 0,5 ~ 3kV, anu kagolong kana operasi tegangan tinggi sareng ngagaduhan bahaya kaamanan anu tangtu.

——Tulisan ieu dipedalkeun ku Guangdong Zhenhua Technology, hijiprodusén mesin palapis optik.