향상된 글로우 방전 이온 코팅 기술의 공통적인 특징

1. 공작물 편향이 낮습니다.

이온화율을 높이는 장치를 추가함으로써 방전 전류 밀도가 증가하고, 바이어스 전압은 0.5~1kV로 감소합니다.

고에너지 이온의 과도한 충격으로 인한 역스퍼터링과 공작물 표면 손상 효과가 감소합니다.

2. 혈장 밀도 증가

충돌 이온화를 촉진하기 위한 다양한 조치가 추가되어 금속 이온화율이 3%에서 15% 이상으로 증가했습니다. 코팅 챔버 내의 치노이온, 고에너지 중성 원자, 질소 이온, 고에너지 활성 원자 및 활성 그룹의 밀도가 증가하여 화합물 형성 반응에 유리합니다. 이러한 다양한 강화 글로우 방전 이온 코팅 기술은 더 높은 플라즈마 밀도에서 반응 증착을 통해 TN 경질막 층을 얻을 수 있었지만, 글로우 방전 방식에 속하기 때문에 방전 전류 밀도가 충분히 높지 않고(여전히 mA/cm2 수준), 전체 플라즈마 밀도가 충분히 높지 않아 반응 증착 화합물 코팅 공정이 어렵습니다.

3. 점 증착 소스의 코팅 범위가 작다

다양한 강화 이온 코팅 기술은 전자빔 증발 소스와 간투(gantu)를 점 증발 소스로 사용하는데, 간투 이상의 반응 증착 범위가 특정 구간으로 제한되어 생산성이 낮고 공정이 복잡하며 산업화가 어렵다는 단점이 있다.

4. 전자총 고압 작동

전자총 전압은 6~30kV이고 공작물 바이어스 전압은 0.5~3kV로, 고전압 작동에 해당하며 일정 수준의 안전 위험이 있습니다.

——본 기사는 광둥전화테크놀로지에서 발표했습니다.광학 코팅 기계 제조업체.