1. İş parçası eğimi düşüktür.
İyonlaşma oranını artırmak için bir cihazın eklenmesiyle deşarj akım yoğunluğu artar ve önyargı voltajı 0,5~1 kV'a düşer.
Yüksek enerjili iyonların aşırı bombardımanından kaynaklanan geri püskürtme ve iş parçası yüzeyindeki hasar etkisi azaltılır.
2. Artan plazma yoğunluğu
Çarpışma iyonizasyonunu teşvik etmek için çeşitli önlemler eklenmiş ve metal iyonizasyon oranı %3'ten %15'in üzerine çıkarılmıştır. Kaplama odasındaki iyon yoğunluğu, yüksek enerjili nötr atomlar, azot iyonları, yüksek enerjili aktif atomlar ve aktif grupların yoğunluğu artırılmış, bu da bileşik oluşumuna yönelik reaksiyonu kolaylaştırmıştır. Yukarıda belirtilen çeşitli geliştirilmiş parıldayan deşarj iyon kaplama teknolojileri, daha yüksek plazma yoğunluklarında reaksiyon biriktirme yoluyla TN sert film tabakaları elde etmeyi mümkün kılmıştır, ancak parıldayan deşarj tipi oldukları için deşarj akım yoğunluğu yeterince yüksek değildir (hala mA/cm2 seviyesinde) ve genel plazma yoğunluğu da yeterince yüksek değildir, bu nedenle reaksiyon biriktirme bileşik kaplama işlemi zordur.
3. Noktasal buharlaştırma kaynağının kaplama aralığı küçüktür.
Çeşitli gelişmiş iyon kaplama teknolojileri, elektron ışını buharlaştırma kaynakları kullanır ve gantu noktasal buharlaştırma kaynağı olarak kullanılır; bu da reaksiyon biriktirme için gantu'nun üzerindeki belirli bir aralıkla sınırlıdır, bu nedenle verimlilik düşüktür, işlem zordur ve endüstrileştirilmesi güçtür.
4. Elektronik silahın yüksek basınçlı çalışması
Elektron tabancasının voltajı 6~30kV, iş parçasının bias voltajı ise 0,5~3kV'tur; bu da yüksek voltajlı çalışma kategorisine girer ve belirli güvenlik riskleri taşır.
—Bu makale Guangdong Zhenhua Teknoloji tarafından yayınlanmıştır.optik kaplama makineleri üreticisi.
Yayın tarihi: 12 Mayıs 2023