Die Anlage ist eine vertikale Doppeltürkonstruktion. Es handelt sich um eine Verbundanlage, die DC-Magnetron-Sputterbeschichtungstechnologie, Widerstandsverdampfungsbeschichtungstechnologie, CVD-Beschichtungstechnologie und ein Mittelfrequenz-Ionenreinigungssystem integriert. Sie eignet sich für die komplexe Produktherstellung von Kunden…

Die Anlage vereint Magnetron-Sputter- und Ionenbeschichtungstechnologie und bietet mit ihrer einzigartigen Radnabenklemmung und der automatischen Drehvorrichtung eine Lösung zur Verbesserung der Farbkonsistenz, der Abscheidungsrate und der Stabilität der Materialzusammensetzung. Je nach Produktanforderungen ...

Die Anlage vereint Magnetron-Sputter- und Ionenbeschichtungstechnologie und bietet eine Lösung zur Verbesserung der Farbkonsistenz, der Abscheidungsrate und der Stabilität der Zusammensetzung. Je nach Produktanforderungen können Heizsystem, Vorspannungssystem, Ionisationssystem und weitere Geräte integriert werden.

Die Anlage vereint Magnetron-Sputtern und Widerstandsverdampfung und bietet eine Lösung zur Beschichtung verschiedenster Substrate. Die experimentelle Beschichtungsanlage wird hauptsächlich an Universitäten und Forschungseinrichtungen eingesetzt und erfüllt vielfältige experimentelle Anforderungen.

Die großflächige Anlage zur Anti-Fingerprint-Beschichtung von Metallen ist mit einem Kathodenbogen-Ionenbeschichtungssystem, einem Mittelfrequenz-Magnetron-Sputterbeschichtungssystem und einem Anti-Fingerprint-Beschichtungssystem ausgestattet und erfüllt die doppelten Anforderungen an hochwertige, große Edelstahlbauteile hinsichtlich Optik und...

Die Anlage nutzt die Kathodenbogen-Ionenbeschichtungstechnologie, die sich durch hohe Abscheidungsrate, hohe Energie und hohe Metallionisierungsrate auszeichnet. Der Kathodenbogen kann je nach Anforderung an verschiedene Prozesse angepasst werden. Die Anlage verfügt über die Eigenschaften…

Die Anlage nutzt die Mehrbogen-Ionenbeschichtungstechnologie, die sich durch einfache Bedienung, hohe Pumpgeschwindigkeit, hohe Effizienz und gute Prozesswiederholbarkeit auszeichnet. Sie ist mit einem beweglichen Doppelstations-Werkstückgestell ausgestattet, das das Be- und Entladen der Werkstücke erleichtert.

Die großtechnische Anlage zur Anti-Fingerprint-Beschichtung für hochwertige Sanitärkeramik ist mit einem Kathodenbogen-Ionenbeschichtungssystem, einem Mittelfrequenz-Magnetron-Sputterbeschichtungssystem und einem Anti-Fingerprint-Beschichtungssystem ausgestattet und erfüllt die doppelten Anforderungen an Metall- und Keramikteile im High-End-Bereich.

Die Anlage nutzt die Elektronenstrahlverdampfungstechnologie. Elektronen werden vom Kathodendraht emittiert und zu einem bestimmten Strahlstrom fokussiert. Dieser wird durch die Potenzialdifferenz zwischen Kathode und Tiegel beschleunigt, um das Beschichtungsmaterial zu schmelzen und zu verdampfen. Sie weist folgende Eigenschaften auf…

Aufgrund des rasanten Wachstums der Nachfrage in der Mobiltelefonindustrie reicht die Ladekapazität herkömmlicher optischer Beschichtungsanlagen nicht mehr aus. ZHENHUA hat daher eine Magnetron-Sputteranlage zur optischen Beschichtung entwickelt, die diesem Bedarf gerecht wird. Anlagenmerkmale: (1) Der Werkstückträger ist zylindrisch konstruiert…

Die Anlage ist mit einem Magnetron-Sputter-Beschichtungssystem, einem Anti-Fingerprint-Beschichtungssystem und einer SPEEDFLO-Regelung ausgestattet. Sie nutzt Mittelfrequenz-Magnetron-Sputtertechnologie und Anti-Fingerprint-Technologie. Es handelt sich um eine Nanobeschichtungsanlage, die speziell für präzise Anwendungen entwickelt wurde.

Die Anlage CF1914 ist mit einem Mittelfrequenz-Magnetron-Sputterbeschichtungssystem, einer Anodenschicht-Ionenquelle, einem SPEEDFLO-Regelkreis und einem Kristallüberwachungssystem ausgestattet. Mittels Mittelfrequenz-Magnetron-Sputtertechnologie werden verschiedene Oxide abgeschieden. Im Vergleich zu herkömmlichen Verfahren…

Gerätevorteile: Das Gerät nutzt die Elektronenstrahlverdampfungstechnologie, bei der Elektronen vom Kathodenfaden emittiert und zu einem spezifischen Strahlstrom fokussiert werden. Der Strahl wird anschließend durch die Potenzialdifferenz zwischen Kathode und Tiegel beschleunigt, wodurch das Beschichtungsmaterial abgeschieden wird.

Die Anlage nutzt die Elektronenstrahlverdampfungstechnologie. Elektronen werden vom Kathodendraht emittiert und zu einem bestimmten Strahlstrom fokussiert. Dieser wird durch die Potenzialdifferenz zwischen Kathode und Tiegel beschleunigt, um das Beschichtungsmaterial zu schmelzen und zu verdampfen. Sie weist folgende Eigenschaften auf…

Die Anlage nutzt die Elektronenstrahlverdampfungstechnologie. Elektronen werden vom Kathodendraht emittiert und zu einem bestimmten Strahlstrom fokussiert. Dieser wird durch die Potenzialdifferenz zwischen Kathode und Tiegel beschleunigt, um das Beschichtungsmaterial zu schmelzen und zu verdampfen. Sie weist folgende Eigenschaften auf…

Die großflächige Anlage zur Anti-Fingerprint-Beschichtung von Metallen ist mit einem Kathodenbogen-Ionenbeschichtungssystem, einem Mittelfrequenz-Magnetron-Sputterbeschichtungssystem und einem Anti-Fingerprint-Beschichtungssystem ausgestattet und erfüllt die doppelten Anforderungen an hochwertige, große Edelstahlbauteile hinsichtlich Optik und...

Da der Markt immer höhere Anforderungen an die Haltbarkeit von Schmuck stellt, hat das Unternehmen spezielle Anlagen zur Schutzfilmbeschichtung für die Schmuckindustrie entwickelt. Die Anlagen nutzen ein CVD-Beschichtungssystem und ein Schutzfilmbeschichtungssystem, mit dem sich hochkorrosionsbeständige Materialien herstellen lassen.

Die Anlage zur Anti-Fingerprint-Beschichtung nutzt die magnetische AF-Anti-Fingerprint-Technologie. Der Abstrahlwinkel von Wassertropfen erreicht über 115°. Die Beschichtung zeichnet sich durch gute Wasserabweisung, hohe Stabilität sowie hervorragende Eigenschaften hinsichtlich Schmutzabweisung, Wasserfestigkeit und Abriebfestigkeit aus.

Die großtechnische Anlage zur Anti-Fingerprint-Beschichtung für hochwertige Sanitärkeramik ist mit einem Kathodenbogen-Ionenbeschichtungssystem, einem Mittelfrequenz-Magnetron-Sputterbeschichtungssystem und einem Anti-Fingerprint-Beschichtungssystem ausgestattet und erfüllt die doppelten Anforderungen an Metall- und Keramikteile im High-End-Bereich.

Angesichts der rasant steigenden Marktnachfrage nach verbesserten Eigenschaften wie Verschleißfestigkeit, Schmierfähigkeit und Korrosionsbeständigkeit von Hartbeschichtungen hat sich die kathodische Lichtbogen-Magnetfiltrations-Ionenbeschichtungsanlage zu einem wichtigen Instrument entwickelt. Die Anlage nutzt die gängigste und effektivste 90°-Technologie…

Die Kathode des Geräts nutzt die Dual-Drive-Technologie mit überlagerter Frontspule und Permanentmagneten und arbeitet mit dem Ätzsystem für die Anodenschicht-Ionenquelle sowie einer dreidimensionalen Mehrwinkelvorrichtung zusammen, um den simultanen Betrieb mehrerer Stationen zu ermöglichen. Ausgestattet mit einer Kathode mit großem Durchmesser ...

Die Anlage nutzt Kathodenbogen-Ionenbeschichtungstechnologie und ist mit einem fortschrittlichen IET-Ätzsystem ausgestattet. Nach der Behandlung kann das Produkt direkt ohne Übergangsschicht mit einer Hartbeschichtung versehen werden. Gleichzeitig wird die traditionelle Lichtbogentechnologie auf Permanentmagnet plus Elektromagnetismus umgestellt.

Die Anlage zur Hartbeschichtung von Saphirfilmen ist eine professionelle Anlage zur Abscheidung von Saphirfilmen. Sie integriert drei Beschichtungssysteme – reaktives Magnetron-Sputtern im mittleren Frequenzbereich, CVD und AF – und erzeugt einen transparenten, hochharten Film mit niedrigem Reibungskoeffizienten auf dem Produkt.

In der Vakuumkammer wird das Beschichtungsmaterial verdampft und mittels Widerstandsheizung auf dem Substrat abgeschieden. Dadurch erhält die Substratoberfläche eine metallische Textur und dient der Dekoration. Das Verfahren zeichnet sich durch eine schnelle Filmbildungsrate, leuchtende Farben und hohe Leistung aus.

Die Anlage ist eine vertikale Doppeltürkonstruktion. Es handelt sich um eine Verbundanlage, die DC-Magnetron-Sputterbeschichtungstechnologie, Widerstandsverdampfungsbeschichtungstechnologie, CVD-Beschichtungstechnologie und ein Mittelfrequenz-Ionenreinigungssystem integriert. Sie eignet sich für die komplexe Produktherstellung von Kunden…

Die von ZHENHUA entwickelte Anlage zur Beschichtung von Lampen mit Schutzfolie löst das langjährige Problem, dass PC/ABS-Lampen lackiert werden müssen. Sie ermöglicht es, die spritzgegossenen Lampenteile direkt in die Vakuumkammer einzuführen, wo die Bedampfung und die Beschichtung mit der Schutzfolie in einem Arbeitsgang erfolgen.

Die von ZHENHUA entwickelte Anlage zur Beschichtung von Lampen mit Schutzfolie löst das langjährige Problem, dass PC/ABS-Lampen lackiert werden müssen. Sie ermöglicht es, die spritzgegossenen Lampenteile direkt in die Vakuumkammer einzuführen, wo die Bedampfung und die Beschichtung mit der Schutzfolie in einem Arbeitsgang erfolgen.

Magnetron-Wickelbeschichtungsanlagen nutzen das Magnetron-Sputterverfahren, um das Beschichtungsmaterial im Vakuum in den gasförmigen oder ionischen Zustand zu überführen und es anschließend auf das Werkstück aufzubringen, um einen dichten Film zu bilden. Dadurch wird die Oberflächenbeschaffenheit verbessert oder eine bestimmte spezielle Eigenschaft erzielt.

Diese Anlagenserie wandelt Beschichtungsmaterialien mit niedrigem Schmelzpunkt und leichter Verdampfbarkeit durch Erhitzen in einem Mittelfrequenz-Induktionsofen oder einem Verdampfungsschiffchen in Nanopartikel um und trägt diese auf die Werkstückoberfläche auf, um einen Film zu bilden. Der aufgerollte Film wird platziert…

Diese Anlagenserie nutzt Magnetron-Targets, um Beschichtungsmaterialien in Nanopartikel umzuwandeln, die anschließend auf Substratoberflächen abgeschieden werden, um Dünnschichten zu bilden. Die aufgerollte Folie wird in die Vakuumkammer eingelegt. Durch die elektrisch angetriebene Wickelstruktur wird ein Ende mit Magnetron-Targets beaufschlagt.

Im Vakuumzustand wird das Werkstück auf die Kathode einer Niederdruck-Glimmentladung gelegt und ein geeignetes Gas eingeleitet. Bei einer bestimmten Temperatur entsteht durch Ionisationspolymerisation, eine Kombination aus chemischer Reaktion und Plasma, eine Beschichtung auf der Werkstückoberfläche, während das Gas...

Durch den Einsatz innovativer Modifizierungstechnologie verbessert diese Lösung die Hydrophilie von Kunststoffoberflächen und die Haftung wasserbasierter Beschichtungen. Sie bietet hervorragende Barriereeigenschaften und Langlebigkeit und erhöht somit die Stabilität und Lebensdauer von Fahrzeuginnenausstattungskomponenten.

Die Vakuumbeschichtungskammer der CVD-Anlage verfügt über eine unabhängige, zweilagige Wasserkühlung, die eine effiziente und gleichmäßige Kühlung gewährleistet und sich durch eine sichere und stabile Konstruktion auszeichnet. Die Anlage ist mit Doppeltüren, mehreren Sichtfenstern und weiteren Komponenten ausgestattet.

Die Anlage nutzt hauptsächlich chemische Gasphasenabscheidung (CVD) zur Herstellung von Oxidschichten und zeichnet sich durch hohe Abscheidungsraten und qualitativ hochwertige Schichten aus. Hinsichtlich der Anlagenkonstruktion wird eine Doppeltürkonstruktion zur Verbesserung der Klemmwirkung eingesetzt, und das neueste Flüssiggasversorgungssystem …

Die Vakuumplasma-Reinigungsanlage ist in integrierter Bauweise gefertigt und mit einem HF-Ionen-Reinigungssystem ausgestattet. Sie zeichnet sich durch vollautomatische Steuerung, einfache Bedienung und Wartung aus. Der HF-Hochfrequenzgenerator erzeugt ein hochdichtes Plasma, das die Werkstückoberfläche aktiviert, ätzt und verascht und so effektiv Material entfernt.

Die Anlage vereint Magnetron-Sputter- und Ionenbeschichtungstechnologie und bietet eine Lösung zur Verbesserung der Farbkonsistenz, der Abscheidungsrate und der Stabilität der Zusammensetzung. Je nach Produktanforderungen können Heizsystem, Vorspannungssystem, Ionisationssystem und weitere Geräte integriert werden.

Die Anlage vereint Magnetron-Sputtern und Widerstandsverdampfung und bietet eine Lösung zur Beschichtung verschiedenster Substrate. Die experimentelle Beschichtungsanlage wird hauptsächlich an Universitäten und Forschungseinrichtungen eingesetzt und erfüllt vielfältige experimentelle Anforderungen.

Die Vakuumplasma-Reinigungsanlage ist in integrierter Bauweise gefertigt und mit einem HF-Ionen-Reinigungssystem ausgestattet. Sie zeichnet sich durch vollautomatische Steuerung, einfache Bedienung und Wartung aus. Der HF-Hochfrequenzgenerator erzeugt ein hochdichtes Plasma, das die Werkstückoberfläche aktiviert, ätzt und verascht und so effektiv Material entfernt.

Die Anlage nutzt die Elektronenstrahlverdampfungstechnologie. Elektronen werden vom Kathodendraht emittiert und zu einem bestimmten Strahlstrom fokussiert. Dieser wird durch die Potenzialdifferenz zwischen Kathode und Tiegel beschleunigt, um das Beschichtungsmaterial zu schmelzen und zu verdampfen. Sie weist folgende Eigenschaften auf…