1. De werkstukvoorspanning is laag.
Door de toevoeging van een apparaat om de ionisatiesnelheid te verhogen, wordt de ontladingsstroomdichtheid verhoogd en de bias-spanning verlaagd tot 0,5~1 kV.
De terugspattering die wordt veroorzaakt door overmatige bombardering met hoogenergetische ionen en het schade-effect op het werkstukoppervlak worden verminderd.
2. Verhoogde plasmadichtheid
Er zijn diverse maatregelen toegevoegd om botsingsionisatie te bevorderen, waardoor de metaalionisatiegraad is gestegen van 3% naar meer dan 15%. De dichtheid van chinonionen en hoogenergetische neutrale atomen, stikstofionen, hoogenergetische actieve atomen en actieve groepen in de coatingkamer is toegenomen, wat de reactie tot de vorming van verbindingen bevordert. De bovengenoemde diverse verbeterde gloeiontlading-ioncoatingtechnologieën hebben het mogelijk gemaakt om harde TN-filmlagen te verkrijgen door reactieafzetting bij hogere plasmadichtheden. Omdat ze echter tot het gloeiontladingtype behoren, is de ontladingsstroomdichtheid niet hoog genoeg (nog steeds mA/cm²-niveau) en de algehele plasmadichtheid niet hoog genoeg, waardoor het proces van reactieafzetting van samengestelde coatings moeilijk is.
3. Het coatingbereik van de puntverdampingsbron is klein.
Verschillende geavanceerde ionencoatingtechnologieën maken gebruik van elektronenbundelverdampingsbronnen en gantu als puntverdampingsbron. De reactieafzetting is echter beperkt tot een bepaald interval boven de gantu, waardoor de productiviteit laag is, het proces complex is en industrialisatie moeilijk is.
4. Elektronisch hogedrukpistool
De spanning van de elektronenkanon bedraagt 6 tot 30 kV, en de voorspanningsspanning van het werkstuk 0,5 tot 3 kV. Dit valt onder hoogspanningsbedrijf en brengt bepaalde veiligheidsrisico's met zich mee.
— Dit artikel is uitgegeven door Guangdong Zhenhua Technology, eenfabrikant van optische coatingmachines.
Geplaatst op: 12 mei 2023