Kengaytirilgan porlash deşarjli ion qoplama texnologiyasining umumiy xususiyatlari

1. Ish qismining egilishi past

Ionlash tezligini oshirish uchun qurilma qo'shilishi tufayli tushirish oqimining zichligi oshadi va egilish kuchlanishi 0,5 ~ 1kV ga kamayadi.

Yuqori energiyali ionlarning haddan tashqari bombardimon qilinishi va ishlov beriladigan qismning yuzasiga zarar ta'siridan kelib chiqadigan orqa nurlanish kamayadi.

2. Plazma zichligi ortishi

To'qnashuvning ionlanishini rag'batlantirish bo'yicha turli choralar qo'shildi va metallning ionlanish darajasi 3% dan 15% dan ko'proqqa oshdi.Qoplama kamerasida chin ionlari va yuqori energiyali neytral atomlar, azot ionlari, yuqori energiyali faol atomlar va faol guruhlarning zichligi oshadi, bu birikmalar hosil qilish reaktsiyasiga yordam beradi.Yuqoridagi turli xil takomillashtirilgan porlash deşarj ionlarini qoplash texnologiyalari yuqori plazma zichligida reaksiya yotqizish orqali TN qattiq plyonka qatlamlarini olishga muvaffaq bo'ldi, ammo ular porlash deşarj turiga tegishli bo'lganligi sababli, tushirish oqimining zichligi etarlicha yuqori emas (hali mA / sm2 darajasida). ), va umumiy plazma zichligi etarlicha yuqori emas va reaktsiya cho'kindi birikmasi qoplama jarayoni qiyin.

3. Nuqtali bug'lanish manbasining qoplama diapazoni kichik

Har xil takomillashtirilgan ion qoplama texnologiyalari elektron nurli bug'lanish manbalarini va gantuni nuqta bug'lanish manbai sifatida ishlatadi, bu reaktsiya cho'kishi uchun gantu ustidagi ma'lum bir oraliq bilan cheklangan, shuning uchun unumdorlik past, jarayon qiyin va sanoatlashtirish qiyin.

4. Elektron qurolning yuqori bosimli ishlashi

Elektron qurolning kuchlanishi 6 ~ 30 kV va ish qismining kuchlanishi 0,5 ~ 3 kV ni tashkil qiladi, bu yuqori voltli ishlashga tegishli va ma'lum xavfsizlik xavfiga ega.

——Ushbu maqola Guangdong Zhenhua Technology tomonidan chop etilgan, aoptik qoplama mashinalari ishlab chiqaruvchisi.