1. E maualalo le fa'aituau o mea faigaluega
Ona o le faʻaopoopoga o se masini e faʻateleina ai le fua o le ionization, ua faʻatuputeleina le maualuga o le taimi nei, ma ua faʻaititia le voltage faʻaituau i le 0.5 ~ 1kV.
O le backsputtering e mafua mai i le soona pomu o ion maualuga-malosi ma aafiaga leaga i luga o le mea faigaluega ua faaitiitia.
2. Faʻateleina plasma density
O auala eseese e faʻaleleia ai le faʻalavelave faʻafuaseʻi ua faʻaopoopoina, ma ua faʻateleina le fua o le ionization uamea mai le 3% i le sili atu i le 15%. O le density o ions auvae ma maualuga-malosi atoms neutral, nitrogen ions, maualuga-malosi atoms malosi ma vaega toaaga i totonu o le potu ufiufi ua faateleina, lea e conducive i le tali e fausia tuufaatasiga. O loʻo i luga o loʻo i luga o loʻo i luga o loʻo i luga o loʻo i luga o le faʻaleleia atili o le faʻaleleia o le susulu o le ion coating technology ua mafai ona maua TN hard film layers e ala i le tuʻuina atu o tali i le maualuga o le plasma densities, ae ona o latou e aofia i le glow discharge type, e le lava le maualuga o le faʻaogaina o le taimi nei (ma / cm2 maualuga), ma le maualuga o le plasma atoa e le maualuga, ma o le faagasologa o le faʻafefe o le faʻapipiʻiina o le faʻapipiʻiina e faigata.
3. E laʻititi le faʻapipiʻiina o le mea e faʻafefe ai le mata
Fa'atekonolosi fa'aluulu ion fa'aleleia le fa'aogaina o puna fa'asuava'e eletise eletise, ma le gantu e fai ma fa'apogai o le mata'upu, lea e fa'atapula'aina i se va'aiga i luga a'e o le gantu mo le fa'aputuina o tali, o lea e maualalo ai le gaosiga, e faigata le faagasologa, ma e faigata ona fa'aulufaleina.
4. Fa'aeletonika fana maualuga-omiga gaioiga
O le eletise eletise eletise o le 6 ~ 30kV, ma o le voluma faʻaituau o mea faigaluega o le 0.5 ~ 3kV, lea e aʻafia i le maualuga-voltage faʻagaioiga ma e iai ni lamatiaga saogalemu.
——O lenei tusiga na tatalaina e Guangdong Zhenhua Technology, agaosiga o masini fa'apipi'i mata.
Taimi meli: Me-12-2023