D'Ausrüstung benotzt eng vertikal Haaptdierstruktur an e Cluster-Layout. Si kann mat Verdampfungsquellen fir Metaller a verschidde organesch Materialien ausgestatt ginn, a kann Siliziumwafere vu verschiddene Spezifikatioune verdampfen. Ausgestatt mat engem Präzisiounsausriichtungssystem ass d'Beschichtung stabil an d'Beschichtung huet eng gutt Widderhuelbarkeet.
D'GX600 Beschichtungsausrüstung kann organesch liicht emittéierend Materialien oder Metallmaterialien präzis, gläichméisseg a kontrolléiert op de Substrat verdampfen. Si huet d'Virdeeler vun enger einfacher Filmbildung, héijer Rengheet an héijer Kompaktheet. Dat vollautomatescht Echtzäit-Iwwerwaachungssystem fir d'Filmdicke kann d'Widderhuelbarkeet a Stabilitéit vum Prozess garantéieren. Si ass mat enger Selbstschmelzfunktioun ausgestatt, fir d'Ofhängegkeet vun de Fäegkeete vum Bedreiwer ze reduzéieren.
D'Ausrüstung kann op Cu, Al, Co, Cr, Au, Ag, Ni, Ti an aner Metallmaterialien ugewannt ginn a kann mat Metallfilm, dielektresche Schichtfilm, IMD-Film usw. beschichtet ginn. Si gëtt haaptsächlech an der Hallefleederindustrie benotzt, wéi z. B. Energieversuergungsapparater, Hallefleeder-Réckverpackungssubstratbeschichtungen usw.
| GX600 | GX900 |
| φ600*800(mm) | φ900*H1050(mm) |