1. Bias workpiece kurang
Amarga tambahan piranti kanggo nambah tingkat ionisasi, Kapadhetan saiki discharge tambah, lan voltase bias suda kanggo 0.5 ~ 1kV.
Backsputtering disebabake bombardment gedhe banget saka ion energi dhuwur lan efek karusakan ing lumahing workpiece wis suda.
2. Tambah Kapadhetan plasma
Macem-macem langkah kanggo ningkatake ionisasi tabrakan wis ditambahake, lan tingkat ionisasi logam tambah saka 3% dadi luwih saka 15%. Kapadhetan ion dagu lan atom netral energi dhuwur, ion nitrogen, atom aktif energi dhuwur lan gugus aktif ing kamar lapisan tambah, sing kondusif kanggo reaksi kanggo mbentuk senyawa. Ing ndhuwur macem-macem teknologi lapisan ion discharge cemlorot meningkat wis bisa diwenehi lapisan film hard TN dening deposisi reaksi ing Kapadhetan plasma sing luwih dhuwur, nanging amarga padha kagungane jinis discharge cemlorot, Kapadhetan saiki discharge ora cukup dhuwur (isih tingkat mA / cm2), lan Kapadhetan plasma sakabèhé ora cukup dhuwur, lan proses lapisan senyawa reaksi deposisi angel.
3. Range lapisan saka sumber penguapan titik cilik
Macem-macem teknologi lapisan ion sing ditingkatake nggunakake sumber penguapan sinar elektron, lan gantu minangka sumber penguapan titik, sing diwatesi ing interval tartamtu ing ndhuwur gantu kanggo deposisi reaksi, saengga produktivitas kurang, proses kasebut angel, lan angel diindustrialisasi.
4. Gun elektronik operasi tekanan dhuwur
Tegangan gun elektron yaiku 6 ~ 30kV, lan voltase bias benda kerja yaiku 0.5 ~ 3kV, sing kalebu operasi voltase dhuwur lan duwe bebaya safety tartamtu.
——Artikel iki dirilis dening Guangdong Zhenhua Technology, aprodusen mesin coating optik.
Wektu kirim: Mei-12-2023