מאפיינים נפוצים של טכנולוגיית ציפוי יוני פריקה משופרת

1. הטיה של חומר העבודה נמוכה

עקב הוספת התקן להגברת קצב היינון, צפיפות זרם הפריקה גדלה, ומתח ההטיה מצטמצם ל-0.5~1kV.

ההתזה האחורית הנגרמת כתוצאה מהפגזה מוגזמת של יונים בעלי אנרגיה גבוהה והשפעת הנזק על פני חומר העבודה מופחתות.

2. צפיפות פלזמה מוגברת

נוספו אמצעים שונים לקידום יינון התנגשות, וקצב יינון המתכת עלה מ-3% ליותר מ-15%. צפיפות יוני הסנטר והאטומים הנייטרליים בעלי אנרגיה גבוהה, יוני חנקן, אטומים פעילים בעלי אנרגיה גבוהה וקבוצות פעילות בתא הציפוי גדלה, דבר התורם לתגובה ליצירת תרכובות. טכנולוגיות ציפוי יוני פריקת זוהר המשופרות השונות הנ"ל הצליחו להשיג שכבות סרט קשיח TN על ידי שקיעת תגובה בצפיפויות פלזמה גבוהות יותר, אך מכיוון שהן שייכות לסוג פריקת הזוהר, צפיפות זרם הפריקה אינה גבוהה מספיק (עדיין רמת mA/cm2), וצפיפות הפלזמה הכוללת אינה גבוהה מספיק, ותהליך ציפוי התרכובות של שקיעת תגובה קשה.

3. טווח הציפוי של מקור האידוי הנקודתי קטן

טכנולוגיות שונות לציפוי יונים משופר משתמשות במקורות אידוי של אלומת אלקטרונים, ובגאנטו כמקור אידוי נקודתי, המוגבל לטווח מסוים מעל הגנטו לצורך שקיעת תגובה, כך שהפרודוקטיביות נמוכה, התהליך קשה וקשה לתיעוש.

4. פעולה בלחץ גבוה של אקדח אלקטרוני

מתח תותח האלקטרונים הוא 6~30kV, ומתח ההטיה של חומר העבודה הוא 0.5~3kV, דבר השייך לפעולה במתח גבוה ויש בו סכנות בטיחות מסוימות.

——מאמר זה פורסם על ידי גואנגדונג ז'נהואה טכנולוגיה, חברהיצרן מכונות ציפוי אופטי.