ဟိလေဟာနယ်အပေါ်ယံပိုင်းစက်၏လုပ်ငန်းစဉ်ကို လေဟာနယ်အငွေ့ပျံခြင်းအပေါ်ယံပိုင်း၊ ဖုန်စုပ်စက်အလွှာနှင့် ဖုန်စုပ်စက်အိုင်းယွန်းအပေါ်ယံပိုင်းဟူ၍ ပိုင်းခြားထားသည်။
1၊ ဖုန်စုပ်စက် အငွေ့ပျံခြင်း အလွှာ
လေဟာနယ်အခြေအနေအောက်တွင်၊ သတ္တု၊ သတ္တုအလွိုင်းစသည်တို့ကို အငွေ့ပျံအောင်ပြုလုပ်ပြီးနောက် အငွေ့ပျံသောအလွှာမျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အငွေ့ပျံသောအလွှာကို မကြာခဏခံနိုင်ရည်ရှိအပူပေးစနစ်ကိုအသုံးပြုကာ၊ ထို့နောက် coating material ၏ အီလက်ထရွန်အလင်းတန်းများကို အငွေ့ပျံစေကာ ၎င်းတို့ကို ဓာတ်ငွေ့အဆင့်အဖြစ်သို့ အငွေ့ပြန်သွားအောင်ပြုလုပ်ကာ substrate မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အပ်နှံခြင်း၊ သမိုင်းကြောင်းအရ၊ အစောပိုင်းတွင် အသုံးပြုခဲ့သော vacuum D vaporation နည်းပညာသည် PV နည်းလမ်းဖြစ်သည်။
2၊ Sputtering coating
ဤအခိုက်အတန့်တွင် အာဂွန် (Ar) အက်တမ်အိုင်းယွန်းများသည် နိုက်ထရိုဂျင်အိုင်းယွန်း (Ar) အတွင်းသို့ လျှပ်စစ်စက်ကွင်း၏ အင်အားဖြင့် အရှိန်မြှင့်လာပြီး အပေါ်ယံပစ္စည်းဖြင့် ပြုလုပ်ထားသည့် cathode ပစ်မှတ်ကို ဗုံးကြဲလိုက်ရာ ပစ်မှတ်သည် ကွဲထွက်ပြီး ယေဘုယျအားဖြင့် ရရှိလာသော ကွဲထွက်နေသော မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ ဓာတ်ငွေ့များကို ကွဲထွက်စေမည်ဖြစ်သည်။ အကွာအဝေး 10-2pa မှ 10Pa၊ ထို့ကြောင့် အမှုန်အမွှားများသည် မြေအောက်ခန်းဆီသို့ ပျံသန်းသောအခါ လေဟာနယ်ခန်းရှိ ဓာတ်ငွေ့မော်လီကျူးများနှင့် တိုက်မိရန် လွယ်ကူပြီး ရွေ့လျားမှု ဦးတည်ရာကို ကျပန်းနှင့် စုစည်းထားသော ဖလင်ကို တူညီစေရန် လွယ်ကူစေသည်။
၃။ အိုင်းယွန်းအလွှာ
လေဟာနယ်အခြေအနေအောက်တွင်၊ လေဟာနယ်အခြေအနေအောက်တွင်၊ အချို့သော plasma ionisation နည်းပညာကို အသုံးပြုပြီး coating material အက်တမ်များကို အိုင်းယွန်းအဖြစ်သို့ တစ်စိတ်တစ်ပိုင်း အိုင်ယွန်သို့ ထုတ်ပေးပါသည်။ တစ်ချိန်တည်းတွင် စွမ်းအင်မြင့်မားသော neutral အက်တမ်များစွာကို ထုတ်လုပ်ပေးပါသည်။ ယင်းနည်းအားဖြင့် အိုင်းယွန်းများသည် အလွှာအပေါ်ယံလွှာတွင် ပါးလွှာသော အနုတ်ဘက်လိုက်မှုအောက်တွင် တည်ရှိနေပါသည်။
စာတိုက်အချိန်- မတ်-၂၃-၂၀၂၃

