Yangsalutan vakumProses mesin dibahagikan kepada: salutan penyejatan vakum, salutan percikan vakum dan salutan ion vakum.
1, Salutan penyejatan vakum
Di bawah keadaan vakum, bahan-bahan seperti logam, aloi logam, dan sebagainya akan tersejat, kemudian didepositkan pada permukaan substrat. Kaedah salutan penyejatan sering menggunakan pemanasan rintangan, dan kemudian pengeboman pancaran elektron pada bahan salutan, menjadikannya tersejat menjadi fasa gas, kemudian didepositkan pada permukaan substrat. Secara sejarahnya, pemendapan wap vakum adalah teknologi terdahulu yang digunakan dalam kaedah PVD.
2, Salutan percikan
Gas tersebut tertakluk kepada nyahcas cahaya di bawah keadaan vakum yang diisi (Ar). Pada masa ini, atom argon (Ar) bertukar menjadi ion nitrogen (Ar). Ion-ion tersebut dipercepatkan oleh daya medan elektrik, dan membedil sasaran katod yang diperbuat daripada bahan salutan, sasaran tersebut akan terpercik keluar dan termendap pada permukaan substrat. Ion insiden dalam salutan terpercik, yang biasanya diperoleh melalui nyahcas cahaya, berada dalam julat 10-2pa hingga 10Pa. Jadi, zarah-zarah terpercik mudah bertembung dengan molekul gas di dalam ruang vakum apabila terbang ke arah substrat, menjadikan arah gerakan rawak dan filem yang termendap mudah seragam.
3, Salutan ion
Di bawah keadaan vakum, teknik pengionan plasma tertentu digunakan untuk mengionkan sebahagian atom bahan salutan menjadi ion. Pada masa yang sama, banyak atom neutral tenaga tinggi dihasilkan, yang dipinggirkan secara negatif pada substrat. Dengan cara ini, ion dimendapkan pada permukaan substrat di bawah bias negatif yang mendalam untuk membentuk filem nipis.
Masa siaran: 23 Mac 2023