Mae'rcotio gwactodproses peiriant wedi'i rannu'n: cotio anweddiad gwactod, cotio sputtering gwactod a gorchudd ïon gwactod.
1 、 Cotio anweddiad gwactod
O dan y cyflwr gwactod, gwneud y deunydd yn anweddu ， megis y metel, aloi metel, ac ati yna eu hadneuo ar wyneb y swbstrad, y dull cotio anweddiad yn aml yn defnyddio gwresogi gwrthiant, ac yna beledu trawst electron y deunydd cotio, yn eu gwneud anweddu i mewn i gyfnod nwy, yna adneuo ar wyneb y swbstrad, yn hanesyddol, dyddodiad anwedd gwactod yw'r dechnoleg gynharach a ddefnyddir mewn dull PVD.
2 、 Sputtering cotio
Mae'r nwy yn destun gollyngiad glow o dan amodau gwactod llawn (Ar) Ar hyn o bryd mae'r atomau argon (Ar) yn ïonau nitrogen (Ar), Mae'r ïonau'n cael eu cyflymu gan rym y maes trydan ， ac yn peledu'r targed catod sy'n wedi'i wneud o'r deunydd cotio, bydd y targed yn cael ei wasgaru a'i adneuo ar wyneb y swbstrad Mae ïonau digwyddiad mewn cotio sputter, a geir yn gyffredinol trwy ollwng glow, yn yr ystod o 10-2pa i 10Pa, Felly mae'r gronynnau sputtered yn hawdd i wrthdaro gyda'r moleciwlau nwy yn y siambr gwactod wrth hedfan tuag at y swbstrad, gan wneud cyfeiriad y cynnig ar hap a'r ffilm a adneuwyd yn hawdd i fod yn unffurf.
3 、 cotio Ion
O dan yr amodau gwactod, O dan gyflwr gwactod, Wedi defnyddio techneg ïoneiddiad plasma penodol i ïoneiddio'n rhannol yr atomau deunydd cotio i mewn i ions.At yr un pryd mae llawer o atomau niwtral ynni uchel yn cael eu cynhyrchu ， sy'n rhagfarnu'n negyddol ar y substrate.Yn y modd hwn, ïonau yn cael eu hadneuo ar wyneb y swbstrad o dan ogwydd negyddol dwfn i ffurfio ffilm denau.
Amser post: Maw-23-2023