...вакуум каплауМашина процессы түбәндәгеләргә бүленә: вакуум парга әйләндерү каплавы, вакуум сиптерү каплавы һәм вакуум-ион каплавы.
1, Вакуум парга әйләндерү каплавы
Вакуум шартларында, металл, металл эретмәсе һ.б. кебек материалларны парга әйләндерегез, аннары аларны субстрат өслегенә урнаштырыгыз. Парга әйләндерү каплау ысулы еш кына каршылыклы җылытуны куллана, аннары каплау материалын электрон нурлары белән бомбага тоту, аларны газ фазасына әйләндерү, аннары субстрат өслегенә урнаштыру. Тарих буенча, вакуум парга әйләндерү PVD ысулында кулланылган иң элеккеге технология булган.
2, сиптерү каплавы
Газ (Ar) белән тутырылган вакуум шартларында ялтыравыклы разрядка дучар ителә. Бу вакытта аргон (Ar) атомнары азот ионнарына (Ar) әйләнә. Ионнар электр кыры көче белән тизләтелә һәм каплау материалыннан ясалган катод максатына һөҗүм итә. Максат сиптерелә һәм субстрат өслегенә урнаштырыла. Сиптерү каплавындагы очышлы ионнар, гадәттә, ялтыравыклы разряд белән алынган, 10-2pa - 10Pa диапазонында була. Шуңа күрә сиптерелгән кисәкчәләр субстратка очканда вакуум камерасындагы газ молекулалары белән җиңел бәрелешәләр, бу хәрәкәт юнәлешен очраклы итә һәм урнаштырылган пленканы тигез итә.
3, Ион каплавы
Вакуум шартларында, вакуум шартларында, каплау материалы атомнарын өлешчә ионлаштыру өчен билгеле бер плазма ионлаштыру ысулы кулланылды. Шул ук вакытта күп кенә югары энергияле нейтраль атомнар барлыкка килә, алар субстратта тискәре юнәлештә урнашкан. Шулай итеп, ионнар субстрат өслегенә тирән тискәре юнәлеш астында урнаштырыла һәм юка пленка барлыкка китерә.
Бастырып чыгару вакыты: 2023 елның 23 марты