מהם תהליכי מכונת ציפוי ואקום?מהו עקרון העבודה?

הציפוי ואקוםתהליך המכונה מחולק ל: ציפוי אידוי ואקום, ציפוי מקרטעת ואקום וציפוי יוני ואקום.

1, ציפוי אידוי ואקום

בתנאי הוואקום, הפוך את החומר לאידוי, כגון המתכת, סגסוגת המתכת וכו', ואז הפקד אותם על משטח המצע, שיטת ציפוי האידוי היא לעתים קרובות שימוש בחימום התנגדות, ולאחר מכן הפצצת קרן אלקטרונים של חומר הציפוי, הפוך אותם התאדה לשלב גז, ולאחר מכן הפקדה על פני המצע, היסטורית, שקיעת אדי ואקום היא הטכנולוגיה המוקדמת יותר בשימוש בשיטת PVD.

2, ציפוי מקרטעת

הגז נתון לפריקה זוהרת בתנאי ואקום מלאים (Ar) ברגע זה אטומי הארגון (Ar) יונים ליוני חנקן (Ar), היונים מואצים בכוח השדה החשמלי, ומפציצים את מטרת הקתודה אשר עשוי מחומר הציפוי, המטרה תוקפץ החוצה ותופקד על פני המצע יונים תקריות בציפוי מתרס, המתקבלות בדרך כלל על ידי פריקת זוהר, הן בטווח של 10-2pa עד 10Pa，לכן קל להתנגש את החלקיקים המקרזים עם מולקולות הגז בתא הוואקום כאשר טסים לכיוון המצע, מה שהופך את כיוון התנועה אקראי ואת הסרט שהופקד קל להיות אחיד.

3, ציפוי יונים

בתנאי ואקום, בתנאי ואקום, השתמשו בטכניקת יינון פלזמה מסוימת כדי ליינן חלקית את אטומי חומר הציפוי ליונים. במקביל נוצרים הרבה אטומים ניטרליים באנרגיה גבוהה, המוטים לרעה על המצע. בדרך זו, יונים מופקדים על משטח המצע תחת הטיה שלילית עמוקה ליצירת סרט דק.