Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd မှ ကြိုဆိုပါတယ်။
page_banner

စက်မှုသတင်း

  • အခေါင်းပေါက် cathode ion coating ၏လုပ်ငန်းစဉ်

    အခေါင်းပေါက် cathode ion coating ၏လုပ်ငန်းစဉ်

    Hollow cathode ion coating ၏ လုပ်ငန်းစဉ်မှာ အောက်ပါအတိုင်းဖြစ်သည်- ၁၊ Chin ingots များကို ပြိုကျစေပါသည်။2၊ အလုပ်ခွင်ကို တပ်ဆင်ခြင်း။3၊ 5×10-3Pa သို့ ရွှေ့ပြောင်းပြီးနောက်၊ ငွေပြွန်မှ အပေါ်ယံခန်းထဲသို့ အာဂွန်ဓာတ်ငွေ့ကို ထည့်သွင်းပြီး လေဟာနယ်အဆင့် 100Pa ဝန်းကျင်ဖြစ်သည်။4၊ bias power ကိုဖွင့်ပါ။၅...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • အကျိုးအမြတ်များသော Optical Coating Equipment စျေးကွက်- ကြီးမားသော အရောင်းအလားအလာကို ပြသခြင်း။

    အကျိုးအမြတ်များသော Optical Coating Equipment စျေးကွက်- ကြီးမားသော အရောင်းအလားအလာကို ပြသခြင်း။

    နည်းပညာတိုးတက်မှုများ၊ စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် optics လိုအပ်ချက်များ တိုးမြင့်လာခြင်းနှင့် စက်မှုလုပ်ငန်း လျင်မြန်စွာ ဖြစ်ထွန်းလာခြင်းတို့ကြောင့် နှစ်များတစ်လျှောက် အလင်းအမှောင်ဖုံးလွှမ်းခြင်းလုပ်ငန်းသည် သိသာထင်ရှားစွာ တိုးတက်လာခဲ့သည်။ထို့ကြောင့်၊ ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ optical coating ပစ္စည်းဈေးကွက်သည် ထွန်းကားလာပြီး ကုမ္ပဏီများအတွက် ကြီးမားသော အခွင့်အလမ်းများ ဖန်တီးပေးသည်...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • Electron Beam Evaporation ၏ အားသာချက်များနှင့် အားနည်းချက်များကို လေ့လာခြင်း။

    Electron Beam Evaporation ၏ အားသာချက်များနှင့် အားနည်းချက်များကို လေ့လာခြင်း။

    မိတ်ဆက်ပေးခြင်း- ပါးလွှာသောဖလင်များ စုဆောင်းခြင်းနည်းပညာနယ်ပယ်တွင်၊ အရည်အသွေးမြင့် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အီလက်ထရွန်အလင်းငွေ့ပျံခြင်းသည် စက်မှုလုပ်ငန်းအမျိုးမျိုးတွင်အသုံးပြုသည့် အရေးကြီးသောနည်းလမ်းတစ်ခုဖြစ်သည်။၎င်း၏ထူးခြားသောဂုဏ်သတ္တိများနှင့် တုနှိုင်းမဲ့တိကျမှုတို့က သုတေသီများနှင့် ထုတ်လုပ်သူများအတွက် ဆွဲဆောင်မှုရှိသော ရွေးချယ်မှုတစ်ခုဖြစ်စေသည်။သို့သော်...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • Ion beam သည် အစစ်ခံရန် ကူညီပေးပြီး စွမ်းအင်နည်းသော အိုင်းယွန်းအရင်းအမြစ်

    Ion beam သည် အစစ်ခံရန် ကူညီပေးပြီး စွမ်းအင်နည်းသော အိုင်းယွန်းအရင်းအမြစ်

    1.Ion beam assisted deposition သည် ပစ္စည်းများ၏ မျက်နှာပြင်ကို ပြုပြင်မွမ်းမံရာတွင် အထောက်အကူဖြစ်စေရန် စွမ်းအင်နည်းသော အိုင်းယွန်းရောင်ခြည်များကို အဓိကအားဖြင့် အသုံးပြုသည်။(၁) အိုင်းယွန်းဓာတ် အစစ်ခံခြင်း၏ လက္ခဏာရပ်များ မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်မှ အားသွင်းထားသော အိုင်းယွန်းများကို ဖုံးအုပ်ထားသည့် အမှုန်အမွှားများကို အပေါ်ယံမျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်မှ အဆက်မပြတ် ဗုံးကြဲနေပါသည်။
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • အလှဆင်ရုပ်ရှင်၏အရောင်

    အလှဆင်ရုပ်ရှင်၏အရောင်

    ဖလင်ကိုယ်တိုင်က အဖြစ်အပျက်အလင်းကို ရောင်ပြန်ဟပ်ခြင်း သို့မဟုတ် စုပ်ယူခြင်းတို့ကို ရွေးချယ်ပြီး ၎င်း၏အရောင်သည် ဖလင်၏ အလင်းဓာတ်ဂုဏ်သတ္တိများ ၏ရလဒ်ဖြစ်သည်။ပါးလွှာသော ရုပ်ရှင်များ၏ အရောင်သည် ရောင်ပြန်ဟပ်သော အလင်းရောင်ဖြင့် ထုတ်ပေးသည် ဖြစ်သောကြောင့် စုပ်ယူမှု လက္ခဏာများမှ ထုတ်ပေးသော ပင်ကိုယ်အရောင်ကို ရှုထောင့် နှစ်ခု ထည့်သွင်း စဉ်းစားရန် လိုအပ်ပါသည်။
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • PVD နိဒါန်း နိဒါန်း

    PVD နိဒါန်း နိဒါန်း

    နိဒါန်း- အဆင့်မြင့် မျက်နှာပြင် အင်ဂျင်နီယာလောကတွင်၊ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ အငွေ့ပျံခြင်း (PVD) သည် အမျိုးမျိုးသော ပစ္စည်းများ၏ စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် တာရှည်ခံမှုကို မြှင့်တင်ရန်အတွက် သွား-သွားနည်းလမ်းတစ်ခုအဖြစ် ပေါ်ထွက်လာပါသည်။ဤခေတ်မီနည်းပညာသည် မည်သို့အလုပ်လုပ်သည်ကို သင်တွေးဖူးပါသလား။ယနေ့ကျွန်ုပ်တို့သည် P ၏ရှုပ်ထွေးသောစက်ပြင်များကိုလေ့လာသုံးသပ်သည်...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • Optical Coating နည်းပညာ- ပိုမိုကောင်းမွန်သော Visual Effects

    လျင်မြန်သော အရှိန်အဟုန်ဖြင့် ယနေ့ခေတ်တွင် ရုပ်ပုံဆိုင်ရာ အကြောင်းအရာများသည် လွှမ်းမိုးမှုများစွာရှိနေသည့် မြင်ကွင်းအမျိုးမျိုး၏ အရည်အသွေးကို မြှင့်တင်ရာတွင် optical coating နည်းပညာသည် အရေးကြီးသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။စမတ်ဖုန်းများမှသည် တီဗီဖန်သားပြင်များအထိ၊ optical coatings များသည် ကျွန်ုပ်တို့၏ ခံယူချက်နှင့် အမြင်ဆိုင်ရာ အကြောင်းအရာများကို တွေ့ကြုံခံစားရသည့်ပုံစံကို ပြောင်းလဲစေပါသည်။...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • Arc Discharge Power Supply ဖြင့် Magnetron Sputtering Coating ကို မြှင့်တင်ခြင်း။

    Arc Discharge Power Supply ဖြင့် Magnetron Sputtering Coating ကို မြှင့်တင်ခြင်း။

    Magnetron sputtering coating ကို coating chamber အတွင်းရှိ low discharge current density နှင့် low plasma density ဖြင့် glow discharge လုပ်ပါသည်။၎င်းသည် magnetron sputtering နည်းပညာတွင် low film substrate bonding force, low metal ionization rate နှင့် low deposition ra ကဲ့သို့သော အားနည်းချက်များရှိသည်။
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • RF ထုတ်လွှတ်မှုကို အသုံးချခြင်း။

    RF ထုတ်လွှတ်မှုကို အသုံးချခြင်း။

    1. sputtering နှင့် plating insulation film အတွက် အကျိုးပြုသည်။လျှပ်ကူးပစ္စည်းဝင်ရိုးစွန်းတွင် လျင်မြန်စွာပြောင်းလဲမှုကို insulating films ရရှိရန် တိုက်ရိုက် sputter insulating ပစ်မှတ်များကို အသုံးပြုနိုင်သည်။DC ပါဝါအရင်းအမြစ်ကို sputter နှင့် deposit insulation film တွင်အသုံးပြုပါက၊ insulation film သည် positive ions များကို ent...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • အပူချိန်နည်းသော အိုင်အိုနစ်ဓာတုအပူကုသမှု

    အပူချိန်နည်းသော အိုင်အိုနစ်ဓာတုအပူကုသမှု

    1. ရိုးရာဓာတုအပူကုသမှု အပူချိန် ဘုံရိုးရာဓာတုအပူကုသမှု လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် carburizing နှင့် nitriding ပါ၀င်ပြီး လုပ်ငန်းစဉ်အပူချိန်ကို Fe-C အဆင့် ပုံကြမ်းနှင့် Fe-N အဆင့် ပုံကြမ်းအတိုင်း ဆုံးဖြတ်သည်။carburizing temperature သည် 930°C ခန့်ရှိပြီး...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • လေဟာနယ်အငွေ့ပျံမှုအပေါ်ယံပိုင်း၏နည်းပညာပိုင်းဆိုင်ရာဝိသေသလက္ခဏာများ

    လေဟာနယ်အငွေ့ပျံမှုအပေါ်ယံပိုင်း၏နည်းပညာပိုင်းဆိုင်ရာဝိသေသလက္ခဏာများ

    1. လေဟာနယ်အငွေ့ပျံခြင်းအပေါ်ယံပိုင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင် ဖလင်ပစ္စည်းများ၏အငွေ့ပျံခြင်း၊ လေဟာနယ်တွင် အခိုးအငွေ့အက်တမ်များ ပို့ဆောင်ခြင်းနှင့် အလုပ်ခွင်မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အခိုးအငွေ့အက်တမ်များ၏ နျူကလိယနှင့် ကြီးထွားမှုဖြစ်စဉ်တို့ ပါဝင်သည်။2. Vacuum evaporation coating ၏ deposition vacuum degree သည် မြင့်မားပြီး gener...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • မာကျောသောအပေါ်ယံပိုင်းအမျိုးအစားများ

    မာကျောသောအပေါ်ယံပိုင်းအမျိုးအစားများ

    TiN သည် ခိုင်ခံ့မှုမြင့်မားခြင်း၊ မာကျောခြင်းနှင့် ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်းစသည့် အားသာချက်များဖြင့် ဖြတ်တောက်ရာတွင် အသုံးပြုသည့် အစောဆုံး hard coating ဖြစ်သည်။၎င်းသည် ပထမဆုံးစက်မှုလုပ်ငန်းနှင့် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသော hard coating material ဖြစ်ပြီး coated tools နှင့် coated မှိုများတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသည်။TiN hard coating ကို ကနဦး 1000 ℃ တွင် အပ်နှံခဲ့သည်...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • Plasma Surface Modification ၏ လက္ခဏာများ

    Plasma Surface Modification ၏ လက္ခဏာများ

    စွမ်းအင်မြင့်မားသော ပလာစမာသည် ပိုလီမာပစ္စည်းများကို ဗုံးကြဲနိုင်ပြီး ၎င်းတို့၏ မော်လီကျူးကွင်းဆက်များကို ချိုးဖျက်ကာ တက်ကြွသောအုပ်စုများဖွဲ့စည်းခြင်း၊ မျက်နှာပြင်စွမ်းအင်ကို တိုးမြင့်စေပြီး အက်ကြောင်းများကို ထုတ်ပေးနိုင်သည်။ပလာစမာမျက်နှာပြင် ကုသမှုသည် အစုလိုက်ပစ္စည်း၏ အတွင်းပိုင်းဖွဲ့စည်းပုံနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို မထိခိုက်စေဘဲ သိသိသာသာ ဂ...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • Small Arc Source Ion Coating ၏ လုပ်ငန်းစဉ်

    Small Arc Source Ion Coating ၏ လုပ်ငန်းစဉ်

    cathodic arc source ion coating ၏လုပ်ငန်းစဉ်သည် အခြေခံအားဖြင့် အခြားသော coating နည်းပညာများနှင့် အတူတူပင်ဖြစ်ပြီး workpieces တပ်ဆင်ခြင်းနှင့် vacuuming ကဲ့သို့သော အချို့သောလုပ်ဆောင်ချက်များသည် ထပ်ခါတလဲလဲ မရှိတော့ပါ။1.Bombardment of cleaning of workpieces ကို အပေါ်ယံမလိမ်းမီ၊ အာဂွန်ဓာတ်ငွေ့ကို အပေါ်ယံခန်းထဲသို့ ထည့်ပေးသည်...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • Arc Electron Flow ၏ လက္ခဏာများနှင့် မျိုးဆက်နည်းလမ်းများ

    Arc Electron Flow ၏ လက္ခဏာများနှင့် မျိုးဆက်နည်းလမ်းများ

    1. Arc အလင်းအီလက်ထရွန် စီးဆင်းမှု လက္ခဏာများ အီလက်ထရွန် စီးဆင်းမှု၊ အိုင်းယွန်း စီးဆင်းမှုနှင့် စွမ်းအင်မြင့်မားသော ကြားနေအက်တမ်များ ၏ သိပ်သည်းဆသည် arc ပလာစမာမှ ထုတ်ပေးသော တောက်ပသော အထွက်နှုန်းထက် များစွာ မြင့်မားသည်။ဓာတ်ငွေ့အိုင်းယွန်းများနှင့် သတ္တုအိုင်းယွန်းများ အိုင်ယွန်များ ပိုများပြီး၊ စိတ်လှုပ်ရှားဖွယ်ရာ စွမ်းအင်မြင့် အက်တမ်များနှင့် အမျိုးမျိုးသော တက်ကြွသည့် gro...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
12345နောက်တစ်ခု >>> စာမျက်နှာ ၁/၅