Inglapisan vakumProses mesin dipérang dadi: lapisan penguapan vakum, lapisan sputtering vakum, lan lapisan ion vakum.
1. Lapisan penguapan vakum
Ing kahanan vakum, bahan sing diuap, kayata logam, paduan logam, lan liya-liyane, banjur dilebokake ing permukaan substrat. Cara pelapisan penguapan asring nggunakake pemanasan resistensi, banjur pemboman sinar elektron ing bahan pelapisan, supaya nguap dadi fase gas, banjur dilebokake ing permukaan substrat. Sacara historis, deposisi uap vakum minangka teknologi awal sing digunakake ing metode PVD.
2. Lapisan sputtering
Gas kasebut kena pelepasan cahya ing kahanan vakum sing diisi (Ar). Ing wektu iki, atom argon (Ar) dadi ion nitrogen (Ar). Ion kasebut dipercepat dening gaya medan listrik, lan mbombardir target katoda sing digawe saka bahan lapisan, target kasebut bakal muncrat lan diendapkan ing permukaan substrat. Ion insiden ing lapisan muncrat, umume dipikolehi kanthi pelepasan cahya, ana ing kisaran 10-2pa nganti 10Pa. Dadi, partikel sing muncrat gampang tabrakan karo molekul gas ing ruang vakum nalika mabur menyang substrat, nggawe arah gerakan acak lan film sing diendapkan gampang seragam.
3. Lapisan ion
Ing kahanan vakum, ing kahanan vakum, digunakake teknik ionisasi plasma tartamtu kanggo ngionisasi sebagian atom bahan lapisan dadi ion. Ing wektu sing padha, akeh atom netral energi dhuwur sing diasilake, sing bias negatif ing substrat. Kanthi cara iki, ion diendapkan ing permukaan substrat kanthi bias negatif sing jero kanggo mbentuk film tipis.
Wektu kiriman: 23 Maret 2023