Thepalapis vakumProsés mesin dibagi kana: palapis penguapan vakum, palapis sputtering vakum sareng palapis ion vakum.
1. Lapisan penguapan vakum
Dina kaayaan vakum, bahan-bahan anu diuapkeun sapertos logam, logam campuran, jsb. teras disimpen dina permukaan substrat, metode palapis penguapan sering nganggo pemanasan résistansi, teras pamboman sinar éléktron kana bahan palapis, ngajantenkeun aranjeunna nguap kana fase gas, teras disimpen dina permukaan substrat, sacara historis, déposisi uap vakum mangrupikeun téknologi anu langkung awal anu dianggo dina metode PVD.
2. Lapisan Sputtering
Gas ieu kakeunaan debit cahaya dina kaayaan vakum anu dieusi (Ar). Dina momen ieu, atom argon (Ar) robah jadi ion nitrogén (Ar). Ion-ion ieu digancangan ku gaya medan listrik, sarta ngabombardir target katoda anu dijieun tina bahan palapis, target bakal disembur kaluar sarta diendapkeun dina permukaan substrat. Ion anu datang dina palapis sembur, umumna diala ku debit cahaya, aya dina kisaran 10-2pa dugi ka 10Pa. Ku kituna, partikel anu disembur gampang tabrakan jeung molekul gas dina ruang vakum nalika ngalayang ka arah substrat, ngajadikeun arah gerakan acak sarta pilem anu diendapkeun gampang seragam.
3. Lapisan ion
Dina kaayaan vakum, dina kaayaan vakum, téhnik ionisasi plasma anu tangtu dianggo pikeun ngionisasi sabagian atom bahan palapis jadi ion. Dina waktos anu sami, seueur atom nétral énergi tinggi dihasilkeun, anu bias négatif dina substrat. Ku cara kieu, ion disimpen dina permukaan substrat dina bias négatif anu jero pikeun ngabentuk pilem ipis.
Waktos posting: 23-Mar-2023