Thevákuové poťahovaniestrojový proces sa delí na: vákuové naparovanie, vákuové naprašovanie a vákuové iónové nanášanie.
1, Povlak na vákuové odparovanie
Vo vákuovom stave nechajte materiál odpariť, ako je kov, kovová zliatina atď., Potom ich naneste na povrch substrátu, metóda odparovania často používa odporové zahrievanie a potom bombardovanie poťahového materiálu elektrónovým lúčom, urobte ich odparuje sa do plynnej fázy a potom sa ukladá na povrch substrátu, historicky je vákuové naparovanie staršou technológiou používanou v metóde PVD.
2、Povlak naprašovaním
Plyn je vystavený žeravému výboju za podmienok vákua naplneného (Ar) V tomto okamihu sa ión atómov argónu (Ar) mení na ióny dusíka (Ar), ióny sú urýchľované silou elektrického poľa a bombardujú katódový terč, ktorý je vyrobený z poťahového materiálu, terč bude rozprášený a uložený na povrchu substrátu Dopadajúce ióny v rozprašovacom povlaku, zvyčajne získané žiarovým výbojom, sú v rozsahu 10-2pa až 10Pa，Takže naprašované častice sa ľahko zrážajú s molekulami plynu vo vákuovej komore pri lete smerom k substrátu, vďaka čomu je smer pohybu náhodný a nanesený film je ľahko rovnomerný.
3, Iónový povlak
Vo vákuových podmienkach, Vo vákuových podmienkach, sa použila určitá technika plazmovej ionizácie na čiastočnú ionizáciu atómov náterového materiálu na ióny. Súčasne sa vytvára veľa vysokoenergetických neutrálnych atómov, ktoré sú negatívne naklonené na substrát. Týmto spôsobom sa ióny sa ukladajú na povrch substrátu pod hlbokou negatívnou predpätím za vzniku tenkého filmu.
Čas odoslania: 23. marca 2023