Thevakuuma pārklājumsmašīnas process ir sadalīts: vakuuma iztvaikošanas pārklājumā, vakuuma izsmidzināšanas pārklājumā un vakuuma jonu pārklājumā.
1, Vakuuma iztvaikošanas pārklājums
Vakuuma apstākļos iztvaicējiet materiālu, piemēram, metālu, metāla sakausējumu utt., pēc tam uzklājiet tos uz substrāta virsmas, iztvaikošanas pārklājuma metodi bieži izmanto pretestības sildīšanai un pēc tam pārklājuma materiāla bombardēšanu ar elektronu staru. iztvaicē gāzes fāzē, pēc tam uzklāj uz substrāta virsmas, vēsturiski vakuuma tvaiku pārklāšana ir agrākā PVD metodē izmantotā tehnoloģija.
2, izsmidzinošs pārklājums
Gāze tiek pakļauta kvēlizlādei ar (Ar) piepildītā vakuuma apstākļos. Šajā brīdī argona (Ar) atomi joni pārvēršas slāpekļa jonos (Ar), jonus paātrina elektriskā lauka spēks, un bombardē katoda mērķi, kas ir izgatavots no pārklājuma materiāla, mērķis tiks izsmidzināts un nogulsnēts uz substrāta virsmas. Izsmidzināšanas pārklājumā parasti iegūtie joni ir diapazonā no 10-2pa līdz 10Pa, tāpēc izsmidzinātās daļiņas ir viegli saduras. ar gāzes molekulām vakuuma kamerā, lidojot uz substrāta pusi, padarot kustības virzienu nejaušu un nogulsnēto plēvi viegli viendabīgu.
3, jonu pārklājums
Vakuuma apstākļos, Vakuuma apstākļos, izmantoja noteiktu plazmas jonizācijas paņēmienu, lai daļēji jonizētu pārklājuma materiāla atomus jonos. Tajā pašā laikā tiek ražoti daudzi augstas enerģijas neitrālie atomi, kas ir negatīvi nosvērti uz pamatni. Tādā veidā joni tiek nogulsnēti uz pamatnes virsmas zem dziļa negatīva slīpuma, veidojot plānu plēvi.
Izlikšanas laiks: 23.03.2023