စက်ကိရိယာသည် magnetron sputtering နှင့် ion coating နည်းပညာကို ပေါင်းစပ်ထားပြီး အရောင်အသွေးညီညွှတ်မှု၊ ကွဲထွက်နှုန်းနှင့် ဒြပ်ပေါင်းပါဝင်မှု တည်ငြိမ်မှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေရန် ဖြေရှင်းချက်တစ်ခု ပံ့ပိုးပေးပါသည်။မတူညီတဲ့ ထုတ်ကုန်လိုအပ်ချက်အရ...

အကြီးစားသတ္တုဆန့်ကျင်ဘက်လက်ဗွေရာအပေါ်ယံပိုင်းပစ္စည်းကိရိယာတွင် cathode arc ion coating စနစ်၊ လတ်မှတ်ကြိမ်နှုန်း magnetron sputtering coating စနစ်နှင့် အလှဆင်ခြင်းဆိုင်ရာ သတ်မှတ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီသော အဆင့်မြင့် stainless steel အစိတ်အပိုင်းများ၏ နှစ်ခုလိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီသော အကြီးစားသတ္တုလက်ဗွေရာအပေါ်ယံပိုင်းကို တပ်ဆင်ထားပါသည်။ .

တန်ဖိုးကြီး သန့်ရှင်းရေးပစ္စည်းအတွက် အကြီးစား လက်ဗွေရာ ဆန့်ကျင်ဘက်ဆိုင်ရာ ကိရိယာများတွင် cathode arc ion coating စနစ်၊ အလယ်အလတ် ကြိမ်နှုန်း magnetron sputtering coating စနစ်နှင့် သတ္တုအစိတ်အပိုင်းများနှင့် ကြွေထည်အစိတ်အပိုင်းများ၏ လိုအပ်ချက်နှစ်ခုနှင့် ကိုက်ညီသည့် anti fingerprint coating စနစ်တို့ကို တပ်ဆင်ထားပါသည်။ အီး...

စက်ကိရိယာသည် magnetron sputtering နှင့် ion coating နည်းပညာကို ပေါင်းစပ်ထားပြီး အရောင်ညီညွတ်မှု၊ စုဆောင်းမှုနှုန်းနှင့် ဒြပ်ပေါင်းဖွဲ့စည်းမှု၏ တည်ငြိမ်မှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေရန်အတွက် အဖြေတစ်ခုပေးပါသည်။ကွဲပြားခြားနားသောထုတ်ကုန်လိုအပ်ချက်များအရ အပူပေးစနစ်၊ ဘက်လိုက်မှုစနစ်၊ အိုင်ယွန်းနစ်စနစ်နှင့် အခြားစက်ပစ္စည်းများ c...

စက်ကိရိယာသည် ရိုးရှင်းသောလည်ပတ်မှု၊ စုပ်ယူမှုမြန်ဆန်မှု၊ ထိရောက်မှုမြင့်မားပြီး ကောင်းမွန်သော လုပ်ငန်းစဉ်ကို ထပ်ခါထပ်ခါလုပ်ဆောင်နိုင်မှု၏ အားသာချက်များရှိသည့် multi arc ion coating နည်းပညာကို အသုံးပြုထားသည်။၎င်းတွင် workpiece ကို upload နှင့် download လုပ်ရန် အဆင်ပြေသည့် double station ရွှေ့ပြောင်းနိုင်သော workpiece rack ပါ၀င်သည် ။

တန်ဖိုးကြီး သန့်ရှင်းရေးပစ္စည်းအတွက် အကြီးစား လက်ဗွေရာ ဆန့်ကျင်ဘက်ဆိုင်ရာ ကိရိယာများတွင် cathode arc ion coating စနစ်၊ အလယ်အလတ် ကြိမ်နှုန်း magnetron sputtering coating စနစ်နှင့် သတ္တုအစိတ်အပိုင်းများနှင့် ကြွေထည်အစိတ်အပိုင်းများ၏ လိုအပ်ချက်နှစ်ခုနှင့် ကိုက်ညီသည့် anti fingerprint coating စနစ်တို့ကို တပ်ဆင်ထားပါသည်။ အီး...

စက်ပစ္စည်းသည် လျင်မြန်စွာ စုဆောင်းမှုနှုန်း၊ စွမ်းအင်မြင့်မားပြီး မြင့်မားသော သတ္တုအိုင်းယွန်းထွက်နှုန်း၏ ဝိသေသလက္ခဏာများရှိသည့် cathode arc evaporation ion coating နည်းပညာကို လက်ခံပါသည်။လုပ်ငန်းစဉ်အမျိုးမျိုးနှင့်လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ရန် cathode arc သည် မတူညီသောလိုအပ်ချက်များအလိုက် ပေါင်းစပ်နိုင်သည်။ပစ္စည်းမှာ Charging ပါပါတယ်...

အကြီးစားသတ္တုဆန့်ကျင်ဘက်လက်ဗွေရာအပေါ်ယံပိုင်းပစ္စည်းကိရိယာတွင် cathode arc ion coating စနစ်၊ လတ်မှတ်ကြိမ်နှုန်း magnetron sputtering coating စနစ်နှင့် အလှဆင်ခြင်းဆိုင်ရာ သတ်မှတ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီသော အဆင့်မြင့် stainless steel အစိတ်အပိုင်းများ၏ နှစ်ခုလိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီသော အကြီးစားသတ္တုလက်ဗွေရာအပေါ်ယံပိုင်းကို တပ်ဆင်ထားပါသည်။ .

မိုဘိုင်းလ်ဖုန်းလုပ်ငန်း လိုအပ်ချက် အရှိန်အဟုန်ဖြင့် ကြီးထွားလာသဖြင့် ရိုးရာ optical coating machine ၏ တင်နိုင်စွမ်းရည်သည် ဤလိုအပ်ချက်ကို မဖြည့်ဆည်းပေးနိုင်ပါ။ZHENHUA သည် ဤလိုအပ်ချက်ကိုဖြည့်ဆည်းရန် magnetron sputtering optical coating ပစ္စည်းကို စတင်ထုတ်လုပ်ခဲ့သည်။ပစ္စည်းအင်္ဂါရပ်များ- (1) workpiece rack သည် cylindrical des...

စက်ပစ္စည်းများတွင် magnetron sputtering coating system + anti fingerprint coating system + SPEEDFLO closed-loop control တို့ တပ်ဆင်ထားပါသည်။စက်ကိရိယာသည် အလယ်အလတ်ကြိမ်နှုန်း Magnetron sputtering နည်းပညာနှင့် လက်ဗွေရာဆန့်ကျင်နည်းပညာကို အသုံးပြုထားသည်။၎င်းသည် တိကျမှုအတွက် အထူးထုတ်လုပ်ထားသည့် nano coating ပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ...

CF1914 ကိရိယာတွင် အလတ်စား ကြိမ်နှုန်း magnetron sputtering coating system + anode အလွှာ ion source + SPEEDFLO closed-loop control + crystal control monitoring system ပါရှိသည်။အလယ်အလတ်ကြိမ်နှုန်း magnetron sputtering နည်းပညာကို အမျိုးမျိုးသော အောက်ဆိုဒ်များ အပ်နှံရန် အသုံးပြုသည်။ဓလေ့ထုံးစံတွေနဲ့ နှိုင်းစာရင်...

စက်ပစ္စည်းသည် အီလက်ထရွန်ရောင်ခြည်ငွေ့ပျံခြင်းနည်းပညာကို လက်ခံသည်။အီလက်ထရွန်များကို cathode filament မှ ထုတ်လွှတ်ပြီး coating material ကို အရည်ပျော်ပြီး အငွေ့ပျံစေရန် cathode နှင့် crucible အကြား အလားအလာဖြင့် အရှိန်မြှင့်ပေးသည့် အချို့သော beam လျှပ်စီးကြောင်းသို့ အာရုံစိုက်သည်။သူ့မှာ ထူးခြားချက်ရှိတယ်...

စက်ပစ္စည်းသည် အီလက်ထရွန်ရောင်ခြည်ငွေ့ပျံခြင်းနည်းပညာကို လက်ခံသည်။အီလက်ထရွန်များကို cathode filament မှ ထုတ်လွှတ်ပြီး coating material ကို အရည်ပျော်ပြီး အငွေ့ပျံစေရန် cathode နှင့် crucible အကြား အလားအလာဖြင့် အရှိန်မြှင့်ပေးသည့် အချို့သော beam လျှပ်စီးကြောင်းသို့ အာရုံစိုက်သည်။သူ့မှာ ထူးခြားချက်ရှိတယ်...

လက်ရှိဈေးကွက်တွင် လက်ဝတ်ရတနာများ ဝတ်ဆင်နိုင်မှု အတွက် လိုအပ်ချက်များ ပိုမိုမြင့်မားနေခြင်းကြောင့် ကုမ္ပဏီသည် လက်ဝတ်ရတနာလုပ်ငန်းအတွက် အထူးအကာအကွယ် ဖလင်ပစ္စည်းများကို စတင်ထုတ်လုပ်နေပြီဖြစ်သည်။ပစ္စည်းကိရိယာများသည် CVD အပေါ်ယံစနစ်နှင့် အကာအကွယ်ဖလင်အကာအလွှာများကို အသုံးပြုထားပြီး စူပါချေးစားမှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိသော coa ကို ပြင်ဆင်ပေးနိုင်သည်...

anti fingerprint coating ပစ္စည်းသည် magnetic control coating AF anti fingerprint နည်းပညာကို အသုံးပြုထားပြီး anti fingerprint water drop angle သည် 115° ထက်ပို၍ရောက်ရှိနိုင်သည်။ရုပ်ရှင်သည် ကောင်းမွန်သော ရေအားလျှပ်စစ်၊ တည်ငြိမ်မှုမြင့်မားပြီး ညစ်ညမ်းမှုကို ဆန့်ကျင်ကာ အလွန်ကောင်းမွန်သော၊ ရေစိုခံပြီး ဝတ်ဆင်မှုဒဏ်ခံနိုင်သော အကျိုးသက်ရောက်မှုများရှိသည်။Th...

အကြီးစားသတ္တုဆန့်ကျင်ဘက်လက်ဗွေရာအပေါ်ယံပိုင်းပစ္စည်းကိရိယာတွင် cathode arc ion coating စနစ်၊ လတ်မှတ်ကြိမ်နှုန်း magnetron sputtering coating စနစ်နှင့် အလှဆင်ခြင်းဆိုင်ရာ သတ်မှတ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီသော အဆင့်မြင့် stainless steel အစိတ်အပိုင်းများ၏ နှစ်ခုလိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီသော အကြီးစားသတ္တုလက်ဗွေရာအပေါ်ယံပိုင်းကို တပ်ဆင်ထားပါသည်။ .

တန်ဖိုးကြီး သန့်ရှင်းရေးပစ္စည်းအတွက် အကြီးစား လက်ဗွေရာ ဆန့်ကျင်ဘက်ဆိုင်ရာ ကိရိယာများတွင် cathode arc ion coating စနစ်၊ အလယ်အလတ် ကြိမ်နှုန်း magnetron sputtering coating စနစ်နှင့် သတ္တုအစိတ်အပိုင်းများနှင့် ကြွေထည်အစိတ်အပိုင်းများ၏ လိုအပ်ချက်နှစ်ခုနှင့် ကိုက်ညီသည့် anti fingerprint coating စနစ်တို့ကို တပ်ဆင်ထားပါသည်။ အီး...

စက်ပစ္စည်းများ၏ cathode သည် ရှေ့ကွိုင်နှင့် အမြဲတမ်းသံလိုက် superposition ၏ dual drive နည်းပညာကို လက်ခံထားပြီး multi station တပြိုင်နက်လုပ်ဆောင်မှုကို နားလည်ရန် anode အလွှာ ion source etching system နှင့် သုံးဖက်မြင် multi-angle fixture တို့နှင့် ပူးပေါင်းသည်။ကြီးမားသောအချင်း cathode တပ်ဆင်ထားသည် ...

ဝတ်ဆင်မှုခံနိုင်ရည်၊ ချောဆီ၊ ချေးခံနိုင်ရည်နှင့် မာကျောသောအပေါ်ယံပိုင်းများ၏ အခြားဂုဏ်သတ္တိများကို မြှင့်တင်ရန်အတွက် စျေးကွက်ဝယ်လိုအားများ လျင်မြန်စွာကြီးထွားလာခြင်းကြောင့် cathodic arc magnetic filtration ion coating ပစ္စည်းများသည် မီးမောင်းထိုးပြလာပါသည်။ကိရိယာသည် အသုံးအများဆုံးနှင့် ထိရောက်မှု 90 ဒီဂရီကို လက်ခံသည်...

စက်ပစ္စည်းသည် cathode arc ion coating နည်းပညာကို လက်ခံထားပြီး အဆင့်မြင့် IET etching စနစ်ပါရှိသည်။ကုသမှုပြီးနောက်၊ ထုတ်ကုန်သည် အကူးအပြောင်းအလွှာမပါဘဲ မာကျောသောအပေါ်ယံပိုင်းကို တိုက်ရိုက်အပ်နှံနိုင်သည်။တစ်ချိန်တည်းမှာပင်၊ အစဉ်အလာ arc နည်းပညာကို အမြဲတမ်း သံလိုက်နှင့် အီလက်ထရွန်းနစ်သို့ အဆင့်မြှင့်တင်ထားသည်။

Sapphire film hard coating equipment သည် sapphire film ကို အပ်နှံရန်အတွက် ပရော်ဖက်ရှင်နယ် ပစ္စည်းတစ်ခု ဖြစ်သည်။စက်ပစ္စည်းသည် အလယ်အလတ်ကြိမ်နှုန်းဖြင့် ဓာတ်ပြုနိုင်သော magnetron sputtering + CVD + AF ၏ အပေါ်ယံစနစ်သုံးမျိုးကို ပေါင်းစပ်ထားပြီး ထုတ်ကုန်အပေါ် ပွတ်တိုက်မှုနည်းပါးသော ဖောက်ထွင်းမြင်နိုင်သော မြင့်မားသော မာကျောသော ဖလင်ကို ပေးစွမ်းနိုင်သည်။

လေဟာနယ်ခန်းတွင်၊ အပေါ်ယံပစ္စည်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိအပူပေးနည်းလမ်းကို အသုံးပြု၍ အပေါ်ယံလွှာတွင် အငွေ့ပျံပြီး သတ္တုလွှာ၏မျက်နှာပြင်သည် သတ္တုအဆင်းသဏ္ဍာန်ကိုရရှိနိုင်ပြီး အလှဆင်ခြင်းရည်ရွယ်ချက်ကို အောင်မြင်စေရန်။၎င်းသည် လျင်မြန်သော ဖလင်ဖွဲ့စည်းမှုနှုန်း၊ တောက်ပသောအရောင်၊ မြင့်မားသော pr...

ZHENHUA မှထုတ်လုပ်သောမီးအိမ်အကာအကွယ်ဖလင်ပစ္စည်းများသည် PC/ABS မီးချောင်းများကိုဆေးဖြင့်ဖြန်းရန်လိုအပ်သောကြာရှည်ခံပြဿနာကိုဖြေရှင်းပေးသည်။၎င်းသည် မီးချောင်းများ၏ ဆေးထိုးပုံသွင်းထားသော အစိတ်အပိုင်းများကို လေဟာနယ်ခန်းထဲသို့ တိုက်ရိုက်ဝင်ရောက်နိုင်စေကာ အငွေ့ပျံခြင်းနှင့် အကာအကွယ်ဖလင်အဖုံးအုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ကို တစ်ကြိမ်တည်းတွင် အပြီးသတ်နိုင်စေသည်...

ZHENHUA မှထုတ်လုပ်သောမီးအိမ်အကာအကွယ်ဖလင်ပစ္စည်းများသည် PC/ABS မီးချောင်းများကိုဆေးဖြင့်ဖြန်းရန်လိုအပ်သောကြာရှည်ခံပြဿနာကိုဖြေရှင်းပေးသည်။၎င်းသည် မီးချောင်းများ၏ ဆေးထိုးပုံသွင်းထားသော အစိတ်အပိုင်းများကို လေဟာနယ်ခန်းထဲသို့ တိုက်ရိုက်ဝင်ရောက်နိုင်စေကာ အငွေ့ပျံခြင်းနှင့် အကာအကွယ်ဖလင်အဖုံးအုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ကို တစ်ကြိမ်တည်းတွင် အပြီးသတ်နိုင်စေသည်...

စက်ပစ္စည်းသည် ဒေါင်လိုက်နှစ်ထပ်တံခါးဖွဲ့စည်းပုံဖြစ်သည်။၎င်းသည် DC magnetron sputtering coating နည်းပညာ၊ ခံနိုင်ရည်ရှိသော ရေငွေ့ပျံမှုအပေါ်ယံပိုင်းနည်းပညာ၊ CVD အပေါ်ယံပိုင်းနည်းပညာနှင့် ကြိမ်နှုန်းလတ် အိုင်းယွန်း သန့်ရှင်းရေးစနစ်တို့ကို ပေါင်းစပ်ထားသည့် ပေါင်းစပ်ကိရိယာတစ်ခုဖြစ်သည်။ဖောက်သည်များ၏ ရှုပ်ထွေးသော ထုတ်ကုန်များအတွက် သင့်လျော်သော...

ဤစက်ပစ္စည်းစီးရီးများသည် ပါးလွှာသောဖလင်များဖြစ်လာစေရန် အလွှာများ၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် တွယ်ကပ်နေသော အလွှာများ၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် နစ်မြုပ်နေသော နာနိုမီတာအရွယ်အမှုန်များအဖြစ်သို့ coating material များကို magnetron ပစ်မှတ်များကိုအသုံးပြုသည်။လိပ်ထားသောရုပ်ရှင်ကို လေဟာနယ်ခန်းတွင် ထားရှိပါ။လျှပ်စစ်ဖြင့် မောင်းနှင်ထားသော အကွေ့အကောက်ဖွဲ့စည်းပုံမှတဆင့်၊

စမ်းသပ်ထားသော roll to roll coating စက်ပစ္စည်းသည် magnetron sputtering နှင့် cathode arc တို့ကို ပေါင်းစပ်ထားသည့် coating technology ကို လက်ခံထားပြီး၊ film compactness နှင့် high ionization rate နှစ်မျိုးလုံး၏ လိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီပါသည်။စက်ပစ္စည်းသည် ဒေါင်လိုက်ဖွဲ့စည်းပုံဖြစ်ပြီး၊ အလုပ်ခွင်အကွေ့အကောက်စနစ်သည် ဒေါင်လိုက်ထည့်သွင်းထားသည်။

Magnetron winding coating ကိရိယာသည် အပေါ်ယံပစ္စည်းအား လေဟာနယ်တွင် ဓာတ်ငွေ့ သို့မဟုတ် အိုင်းယွန်းအခြေအနေသို့ ပြောင်းလဲရန် magnetron sputtering နည်းလမ်းကို အသုံးပြုပြီး သိပ်သည်းသောဖလင်တစ်ခုအဖြစ် work-piece ပေါ်တွင် အပ်နှံရသည်။မျက်နှာပြင်အနေအထားကို မြှင့်တင်ရန် သို့မဟုတ် အထူးစွမ်းဆောင်မှုတစ်ခုကို ရယူရန်အတွက် ...

လေဟာနယ်အခြေအနေတွင်၊ ဖိအားနည်းသော အလင်းရောင်ထွက်ရှိမှု၏ cathode ပေါ်တွင် workpiece ကိုချထားပြီး သင့်လျော်သောဓာတ်ငွေ့ကို ထိုးသွင်းပါ။သတ်မှတ်ထားသော အပူချိန်တွင်၊ ဓာတုတုံ့ပြန်မှုနှင့် ပလာစမာပေါင်းစပ်ထားသော ionization polymerization လုပ်ငန်းစဉ်ကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့်၊ ဓါတ်ဆီယိုနှင့် ပလာစမာတို့ကို ပေါင်းစပ်ကာ အလုပ်ခွင်၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အပေါ်ယံအလွှာကို ရရှိသည်။

ပစ္စည်းများသည် လျင်မြန်စွာ သိုလှောင်မှုနှုန်းနှင့် မြင့်မားသော ဖလင်အရည်အသွေး လက္ခဏာများရှိသည့် အောက်ဆိုဒ်ဖလင်ကို ပြင်ဆင်ရန်အတွက် ဓာတုအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်းကို အဓိကအားဖြင့် လက်ခံပါသည်။စက်ပစ္စည်းဖွဲ့စည်းပုံအတွက်၊ တံခါးနှစ်ထပ်ဖွဲ့စည်းပုံသည် ကုပ်ခြင်းစွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ရန်နှင့် နောက်ဆုံးပေါ်အရည်ဓာတ်ငွေ့ပေးဝေသည့်စနစ် i...

ဓာတုအခိုးအငွေ့ စွန့်ပစ်ပစ္စည်း၏ လေဟာနယ်အခန်းသည် အအေးခံရာတွင် ထိရောက်ပြီး တူညီသည့် လွတ်လပ်သော နှစ်ထပ်ရေအေးဖွဲ့စည်းပုံကို လက်ခံကာ ဘေးကင်းပြီး တည်ငြိမ်သော ဖွဲ့စည်းပုံရှိသည်။စက်ပစ္စည်းများကို တံခါးနှစ်ထပ်၊ ရှုခင်းပြတင်းပေါက်မျိုးစုံနှင့် ဒီဇိုင်းမျိုးစုံဖြင့် ဖန်တီးထားသည်။

ဖုန်စုပ်ပလာစမာ သန့်ရှင်းရေး ကိရိယာသည် ပေါင်းစပ်ဖွဲ့စည်းပုံကို လက်ခံသည်၊ RF အိုင်းယွန်း သန့်ရှင်းရေးစနစ်၊ အပြည့်အဝ အလိုအလျောက် ထိန်းချုပ်မှု၊ အဆင်ပြေသော လည်ပတ်မှုနှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုတို့ ပါဝင်သည်။RF ကြိမ်နှုန်းမြင့် ဂျင်နရေတာသည် သိပ်သည်းဆမြင့်သော ပလာစမာကို ထုတ်ပေးနိုင်ပြီး၊ အလုပ်လုပ်ဆောင်သည့် မျက်နှာပြင်ကို အက်ကွဲစေခြင်း၊

စမ်းသပ်ထားသော roll to roll coating စက်ပစ္စည်းသည် magnetron sputtering နှင့် cathode arc တို့ကို ပေါင်းစပ်ထားသည့် coating technology ကို လက်ခံထားပြီး၊ film compactness နှင့် high ionization rate နှစ်မျိုးလုံး၏ လိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီပါသည်။စက်ပစ္စည်းသည် ဒေါင်လိုက်ဖွဲ့စည်းပုံဖြစ်ပြီး၊ အလုပ်ခွင်အကွေ့အကောက်စနစ်သည် ဒေါင်လိုက်ထည့်သွင်းထားသည်။

ဖုန်စုပ်ပလာစမာ သန့်ရှင်းရေး ကိရိယာသည် ပေါင်းစပ်ဖွဲ့စည်းပုံကို လက်ခံသည်၊ RF အိုင်းယွန်း သန့်ရှင်းရေးစနစ်၊ အပြည့်အဝ အလိုအလျောက် ထိန်းချုပ်မှု၊ အဆင်ပြေသော လည်ပတ်မှုနှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုတို့ ပါဝင်သည်။RF ကြိမ်နှုန်းမြင့် ဂျင်နရေတာသည် သိပ်သည်းဆမြင့်သော ပလာစမာကို ထုတ်ပေးနိုင်ပြီး၊ အလုပ်လုပ်ဆောင်သည့် မျက်နှာပြင်ကို အက်ကွဲစေခြင်း၊

စက်ကိရိယာသည် magnetron sputtering နှင့် ion coating နည်းပညာကို ပေါင်းစပ်ထားပြီး အရောင်ညီညွတ်မှု၊ စုဆောင်းမှုနှုန်းနှင့် ဒြပ်ပေါင်းဖွဲ့စည်းမှု၏ တည်ငြိမ်မှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေရန်အတွက် အဖြေတစ်ခုပေးပါသည်။ကွဲပြားခြားနားသောထုတ်ကုန်လိုအပ်ချက်များအရ အပူပေးစနစ်၊ ဘက်လိုက်မှုစနစ်၊ အိုင်ယွန်းနစ်စနစ်နှင့် အခြားစက်ပစ္စည်းများ c...

စက်ကိရိယာသည် magnetron sputtering နှင့် resistance evaporation နည်းပညာကို ပေါင်းစပ်ထားပြီး မတူညီသော အလွှာအမျိုးမျိုးကို coating အတွက် ဖြေရှင်းချက် ပေးပါသည်။စမ်းသပ်မှုဆိုင်ရာ အပေါ်ယံပစ္စည်းကိရိယာများကို တက္ကသိုလ်များနှင့် သိပ္ပံသုတေသနအဖွဲ့အစည်းများတွင် အဓိကအသုံးပြုကြပြီး စမ်းသပ်မှုအမျိုးမျိုးကို ဖြည့်ဆည်းပေးနိုင်သည်...