Опремата за композитно обложување на магнетронско распрскување и катодно повеќелачно јонско обложување може да работи одделно и истовремено; може да се депонира и подготви чист метален филм, филм од метални соединенија или композитен филм; може да биде еднослоен филм и повеќеслоен композитен филм.
Неговите предности се како што следува:
Не само што ги комбинира предностите на различните јонски премази и ги зема предвид подготовката и таложењето на тенок филм за различни полиња на примена, туку овозможува и таложење и подготовка на повеќеслојни монолитни филмови или повеќеслојни композитни филмови во истата комора за вакуумско премачкување истовремено.
Примените на таложените филмски слоеви се широко користени, а нивните технологии се во различни форми, од кои типичните се следниве:
(1) Соединение на нерамнотежно магнетронско распрскување и технологија на катодно јонско позлатување.
Неговиот уред е прикажан на следниов начин. Тоа е опрема за соединение за обложување од колонообразен магнетронски мет и рамнообразен катоден лачен јонски премаз, кој е погоден и за обложување на алати со соединение на филм и за обложување на декоративен филм. За обложување на алати, катодниот лачен јонски премаз прво се користи за обложување на основниот слој, а потоа колонообразниот магнетронски мет се користи за таложење на нитридни и други филмски слоеви за да се добие високопрецизен површински филм за обработка на алати.
За декоративно премачкување, декоративните филмови од TiN и ZrN можат прво да се нанесат со катодно лачно премачкување, а потоа да се допираат со метал со магнетронски мети, а ефектот на допирување е многу добар.
(2) Техники на соединение на двојна рамнина магнетронска и колонообразен катоден лак со јонски премаз. Уредот е прикажан на следниов начин. Се користи напредна технологија на двојна цел, кога две двојни цели една до друга се поврзани со среднофреквентно напојување, не само што се надминува труењето со цел од распрскување на еднонасочна струја, пожар и други недостатоци; и може да се депонира филм со квалитет на Al203, SiO2 оксид, така што отпорноста на оксидација на обложените делови се зголемува и подобрува. Колонообразен повеќелачен цел инсталиран во центарот на вакуумската комора, како материјал за цел може да се користат Ti и Zr, не само за да се одржат предностите на високата стапка на повеќелачна дисоцијација, стапката на таложење, туку и ефикасно да се намалат „капките“ во процесот на депонирање на мала рамнина со повеќелачен цел, може да се депонираат и подготвуваат метални филмови со ниска порозност, соединенија. Ако Al и Si се користат како целни материјали за двојни рамни магнетронски цели инсталирани на периферијата, може да се депонираат и подготвуваат Al203 или Si0 метал-керамички филмови. Покрај тоа, на периферијата може да се инсталираат повеќе мали рамнини на повеќелачен извор на испарување, а неговиот целен материјал може да биде Cr или Ni, а металните филмови и повеќеслојните композитни филмови може да се депонираат и подготвуваат. Затоа, оваа технологија за композитно обложување е технологија за композитно обложување со повеќекратни примени.
Време на објавување: 08.11.2022