மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் மற்றும் கேத்தோடிக் மல்டி-ஆர்க் அயன் கோட்டிங் கூட்டு தொழில்நுட்பம்

மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் மற்றும் கேத்தோடிக் மல்டி-ஆர்க் அயன் கோட்டிங் ஆகியவற்றின் கூட்டுப் பூச்சு உபகரணங்கள் தனித்தனியாகவும் ஒரே நேரத்திலும் செயல்பட முடியும்; தூய உலோகப் படலம், உலோகக் கலவைப் படலம் அல்லது கூட்டுப் படலம் ஆகியவற்றைப் படியவைத்துத் தயாரிக்கலாம்; இது ஒற்றை அடுக்குப் படலமாகவும் பல அடுக்குக் கூட்டுப் படலமாகவும் இருக்கலாம்.

இதன் நன்மைகள் பின்வருமாறு:
இது பல்வேறு அயனிப் பூச்சுகளின் நன்மைகளை ஒருங்கிணைத்து, பல்வேறு பயன்பாட்டுத் துறைகளுக்கான மென்படலங்களைத் தயாரித்துப் படியவைப்பதைக் கருத்தில் கொள்வது மட்டுமல்லாமல், ஒரே வெற்றிடப் பூச்சு அறையில் ஒரே நேரத்தில் பல அடுக்கு ஒற்றைப் படலங்கள் அல்லது பல அடுக்குக் கலவைப் படலங்களைப் படியவைக்கவும் தயாரிக்கவும் அனுமதிக்கிறது.
படியவைக்கப்பட்ட படல அடுக்குகளின் பயன்பாடுகள் பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகின்றன, அதன் தொழில்நுட்பங்கள் பல்வேறு வடிவங்களில் உள்ளன, அவற்றில் பொதுவானவை பின்வருமாறு:
(1) சமநிலையற்ற மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் மற்றும் கேத்தோடிக் அயன் பிளேட்டிங் தொழில்நுட்பத்தின் கலவை.
இதன் சாதனம் பின்வருமாறு காட்டப்பட்டுள்ளது. இது தூண் வடிவ மேக்னட்ரான் இலக்கு மற்றும் தள வடிவ கேத்தோடிக் ஆர்க் அயன் பூச்சு ஆகியவற்றைக் கொண்ட ஒரு கூட்டுப் பூச்சு உபகரணமாகும். இது கருவிப் பூச்சுக் கூட்டுப் படலம் மற்றும் அலங்காரப் படலப் பூச்சு ஆகிய இரண்டிற்கும் ஏற்றது. கருவிப் பூச்சுக்கு, முதலில் அடித்தளப் பூச்சுக்காக கேத்தோடிக் ஆர்க் அயன் பூச்சு பயன்படுத்தப்படுகிறது. பின்னர், நைட்ரைடு மற்றும் பிற படல அடுக்குகளைப் படியவைத்து, உயர் துல்லியமான செயலாக்கக் கருவியின் மேற்பரப்புப் படலத்தைப் பெறுவதற்காக, தூண் வடிவ மேக்னட்ரான் இலக்கு பயன்படுத்தப்படுகிறது.
அலங்காரப் பூச்சுக்காக, முதலில் கேத்தோடிக் ஆர்க் பூச்சு முறையில் TiN மற்றும் ZrN அலங்காரப் படலங்களைப் படியவைத்து, பின்னர் மேக்னட்ரான் இலக்குகளைப் பயன்படுத்தி உலோகத்தைக் கலப்படம் செய்யலாம், மேலும் இந்தக் கலப்படம் செய்யும் விளைவு மிகவும் சிறப்பாக உள்ளது.

(2) இரட்டைத் தள மேக்னட்ரான் மற்றும் நெடுவரிசை கேத்தோடு ஆர்க் அயன் பூச்சு நுட்பங்களின் கலவை. சாதனம் பின்வருமாறு காட்டப்பட்டுள்ளது. இது மேம்பட்ட இரட்டை இலக்கு தொழில்நுட்பத்தைப் பயன்படுத்துகிறது, அருகருகே உள்ள இரண்டு இரட்டை இலக்குகள் நடுத்தர அதிர்வெண் மின் விநியோகத்துடன் இணைக்கப்படும்போது, ​​இது DC ஸ்பட்டரிங்கின் இலக்கு நச்சுத்தன்மை, தீ மற்றும் பிற குறைபாடுகளைத் தவிர்ப்பது மட்டுமல்லாமல்; Al203, SiO2 ஆக்சைடு தரமான படலத்தைப் படியவைக்க முடியும், இதனால் பூசப்பட்ட பாகங்களின் ஆக்சிஜனேற்ற எதிர்ப்பு அதிகரித்து மேம்படுத்தப்பட்டுள்ளது. வெற்றிட அறையின் மையத்தில் நிறுவப்பட்ட நெடுவரிசை பல-வில் இலக்கின் இலக்குப் பொருளாக Ti மற்றும் Zr பயன்படுத்தப்படலாம், இது அதிக பல-வில் சிதைவு விகிதம், படிவு விகிதம் ஆகியவற்றின் நன்மைகளைத் தக்கவைப்பது மட்டுமல்லாமல், சிறிய தள பல-வில் இலக்கு படிவு செயல்பாட்டில் "துளிகளை" திறம்படக் குறைத்து, குறைந்த நுண்துளை கொண்ட உலோகப் படலங்கள், கலவைப் படலங்களைப் படியவைத்துத் தயாரிக்க முடியும். சுற்றளவில் நிறுவப்பட்ட இரட்டைத் தள மேக்னட்ரான் இலக்குகளுக்கு Al மற்றும் Si இலக்குப் பொருட்களாகப் பயன்படுத்தப்பட்டால், Al203 அல்லது Si0 உலோக-பீங்கான் படலங்களைப் படியவைத்துத் தயாரிக்கலாம். மேலும், பல-வளைவு ஆவியாக்க மூலத்தின் பல சிறிய தளங்களை விளிம்பில் நிறுவலாம், அதன் இலக்குப் பொருளாக Cr அல்லது Ni-ஐப் பயன்படுத்தலாம், மேலும் உலோகப் படலங்கள் மற்றும் பல அடுக்குக் கலவைப் படலங்களைப் படியவைத்துத் தயாரிக்கலாம். எனவே, இந்தக் கலவைப் பூச்சுத் தொழில்நுட்பம் என்பது பல பயன்பாடுகளைக் கொண்ட ஒரு கலவைப் பூச்சுத் தொழில்நுட்பமாகும்.