Apparatum coating compositum magnetonis putris et multi- arcus cathodici ion efficiens separatim et simul operari potest;deponi et praeparari potest cinematographicum purum, vel cinematographicum compositum vel cinematographicum compositum;unum accumsan cinematographici ac multi- accumsan cinematographici compositi esse potest.
Commoda eius ut consequuntur;
Non solum commoda variarum membranarum componit et rationem attendit praeparationis et depositionis tenuis pelliculae pro variis applicationibus campis, sed etiam permittit depositionem et praeparationem multi- plicis cinematographicae monolithicae vel multi- strati in eodem vacuo membranae compositae. membrana coating unum tempus.
Applicationes in stratis cinematographicis depositis late usi sunt eius technologiae in variis formis, quae typicae sequuntur:
(1) Compositum ex magnetron non aequilibrio putris et technologia cathodic ion plating.
Eius notae sic se- ditur.Instrumentum efficiens compositum est clypei magnetonis columnaris et arcus catho- rici plani ion efficiens, quod utrique instrumenti est aptum efficiens cinematographicum compositum et cinematographicum ornativum.Ad instrumentum coatingis, arcus cathodicus ion coatingis primum pro basi iacu- rarum tunicae ponitur, et deinde scopus magnetron columnae pro nitridis depositione et aliis stratis cinematographicis ut summus praecisio instrumentum superficiei cinematographici obtineat.
Ad decorativam tunicam, TiN et ZrN membrana decorativa ab arcu cathodico primum tunicam deponi possunt, et deinde scopis magnetronicis metallicis adhibitis, et effectus doping valde bonus est.
(2) Compositum magnetronis et columnae cathode arcui ion e geminis pla- natis artibus efficiens.Vim invidunt qualisque consequuntur.Adhibetur technologiae clypei geminae progressae, cum duo scuta gemina iuncti mediae frequentiae potentiae copiae iuncta, non solum scopo veneficii DC putris, ignis et alia vitia superat;et potest deponere Al203, SiO2 oxydatum cinematographici qualitatis, ita ut resistentia oxidationis partium coatingarum augeatur et crescat.Scopum columnare multi-arcum in centro vacui cubiculi inauguratum, scopo materiali Ti et Zr adhiberi possunt, non solum ad utilitates dissociationis altae multi-arci, rate depositionis, sed etiam efficaciter reducere "droplets" in processus parvae plane depositionis multi-arci scopo, potest deponere et parare humilem poros cinematographicorum metallicarum, membranarum compositorum.Si Al et Si adhibentur ut scopum materiae pro geminis scopis planis magnetron periferia constitutis, Al203 vel Si0 cinematographica metallica ceramica deponi et praeparari possunt.Praeterea, multiplex parva plana ex multi-arci evaporationis fonte in periferia institui potest, eiusque scopum materia Cr vel Ni esse potest, et membranae metallicae multilateri cinematographici compositi deponi et praeparari possunt.Ergo hoc compositum technologiam efficiens est compositum technologiam efficiens cum multiplicibus applicationibus.
Post tempus: Nov-08-2022