Magnetron sputtering eta arku anitzeko ioi estaldura katodikoen estaldura konposatuen ekipamenduak bereiz eta aldi berean funtziona ditzake;metalezko film purua, metalezko film konposatua edo film konposatua metatu eta prestatu daiteke;film geruza bakarra eta geruza anitzeko film konposatua izan daitezke.
Bere abantailak honako hauek dira:
Hainbat ioi-estalduraren abantailak konbinatzen ditu eta aplikazio-eremu ezberdinetarako film meheen prestaketa eta deposizioa kontuan hartzen ditu, baizik eta geruza anitzeko film monolitikoak edo geruza anitzeko film konposatuak huts berean deposizioa eta prestatzea ahalbidetzen du. estaldura-ganbera aldi berean.
Gordailatutako film-geruzen aplikazioak oso erabiliak dira bere teknologiak hainbat formatan daude, ohikoak hauek dira:
(1) Orekarik gabeko magnetron sputtering eta ioi katodikoen plakatze teknologiaren konposatua.
Bere gailua honela erakusten da.Magnetron helburu zutabearen eta arku katodiko ioien estaldura planaren estaldura ekipamendu konposatua da, erreminta estaldura konposatu filma eta dekorazio filma estaldurarako egokia dena.Erremintaren estaldurarako, arku ioi katodikoaren estaldura oinarrizko geruzaren estaldurarako erabiltzen da lehenik, eta, ondoren, zutabe magnetron helburua nitruroa eta beste film geruzak jalkitzeko erabiltzen da doitasun handiko prozesatzeko tresnaren gainazaleko filma lortzeko.
Dekorazio-estaldurarako, TiN eta ZrN dekorazio-filmak arku katodikoaren estalduraz jar daitezke lehenik, eta gero metalarekin dopatu magnetron helburuak erabiliz, eta dopin-efektua oso ona da.
(2) Plano bikoitzeko magnetron eta zutabe katodo arku ioien estaldura tekniken konposatua.Gailua honela erakusten da.Helburu bikien teknologia aurreratua erabiltzen da, maiztasun ertaineko elikadura-hornidurari lotuta dauden bi helburu biki elkarren ondoan daudenean, DC sputtering, sua eta beste eragozpen batzuen xede-pozoitzea gainditzen ez ezik;eta Al203, SiO2 oxidoaren kalitatezko filma jar dezake, estalitako piezen oxidazio-erresistentzia handitu eta hobetu dadin.Zutabe-arku anitzeko xedea huts-ganberaren erdian instalatuta, xede-materiala Ti eta Zr erabil daiteke, ez bakarrik arku anitzeko disoziazio-tasa altuaren abantailak mantentzeko, deposizio-tasa, baina "tantak" modu eraginkorrean murrizteko. Hegazkin txikiko arku anitzeko xede deposizioaren prozesuak metalezko filmak, film konposatuak, porositate baxua gorde eta presta ditzake.Al eta Si erabiltzen badira periferian instalatutako magnetroi planar biko helburuetarako helburu-material gisa, Al203 edo Si0 metal-zeramikazko filmak metatu eta prestatu daitezke.Horrez gain, arku anitzeko lurrunketa-iturriaren plano txiki anitz instala daitezke periferian, eta bere xede-materiala Cr edo Ni izan daiteke, eta metalezko filmak eta geruza anitzeko film konposatuak metatu eta prestatu daitezke.Hori dela eta, estaldura konposatuen teknologia hau aplikazio anitz dituen estaldura konposatuen teknologia da.
Argitalpenaren ordua: 2022-12-08