ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং এবং ক্যাথোডিক মাল্টি-আর্ক আয়ন কোটিং-এর কম্পোজিট কোটিং সরঞ্জাম আলাদাভাবে এবং একই সাথে কাজ করতে পারে; এর মাধ্যমে বিশুদ্ধ ধাতব ফিল্ম, ধাতব যৌগিক ফিল্ম বা কম্পোজিট ফিল্ম জমা ও প্রস্তুত করা যায়; যা একক স্তরের ফিল্ম এবং বহুস্তরীয় কম্পোজিট ফিল্ম উভয়ই হতে পারে।
এর সুবিধাগুলো নিম্নরূপ:
এটি কেবল বিভিন্ন আয়ন কোটিং-এর সুবিধাসমূহকে একত্রিত করে এবং বিভিন্ন প্রয়োগক্ষেত্রের জন্য পাতলা ফিল্মের প্রস্তুতি ও প্রলেপ দেওয়ার বিষয়টি বিবেচনা করে তাই নয়, বরং এটি একই ভ্যাকুয়াম কোটিং চেম্বারে একই সময়ে বহুস্তরীয় মনোলিথিক ফিল্ম বা বহুস্তরীয় কম্পোজিট ফিল্মের প্রলেপ দেওয়া ও প্রস্তুতিরও সুযোগ করে দেয়।
জমা করা ফিল্ম স্তরের প্রয়োগ ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয় এবং এর প্রযুক্তিগুলো বিভিন্ন ধরনের হয়ে থাকে, যার মধ্যে সাধারণ কয়েকটি নিম্নরূপ:
(1) অ-ভারসাম্য ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং এবং ক্যাথোডিক আয়ন প্লেটিং প্রযুক্তির যৌগ।
এর যন্ত্রটি নিম্নরূপভাবে দেখানো হয়েছে। এটি কলামার ম্যাগনেট্রন টার্গেট এবং প্ল্যানার ক্যাথোডিক আর্ক আয়ন কোটিং-এর একটি যৌগিক কোটিং সরঞ্জাম, যা টুল কোটিং যৌগিক ফিল্ম এবং ডেকোরেটিভ ফিল্ম কোটিং উভয়ের জন্যই উপযুক্ত। টুল কোটিং-এর ক্ষেত্রে, প্রথমে বেস লেয়ার কোটিং-এর জন্য ক্যাথোডিক আর্ক আয়ন কোটিং ব্যবহার করা হয়, এবং তারপর একটি উচ্চ-নির্ভুল প্রসেসিং টুল সারফেস ফিল্ম পাওয়ার জন্য নাইট্রাইড এবং অন্যান্য ফিল্ম লেয়ারের ডিপোজিশনের জন্য কলাম ম্যাগনেট্রন টার্গেট ব্যবহার করা হয়।
আলংকারিক আবরণের জন্য, প্রথমে ক্যাথোডিক আর্ক কোটিং পদ্ধতিতে TiN এবং ZrN আলংকারিক ফিল্ম জমা করা যেতে পারে, এবং তারপর ম্যাগনেট্রন টার্গেট ব্যবহার করে ধাতু দিয়ে ডোপিং করা হয়, এবং এর ডোপিং প্রভাব খুবই ভালো।
(2) টুইন প্লেন ম্যাগনেট্রন এবং কলাম ক্যাথোড আর্ক আয়ন কোটিং কৌশলের সংমিশ্রণ। ডিভাইসটি নিম্নরূপ দেখানো হয়েছে। এটি উন্নত টুইন টার্গেট প্রযুক্তি ব্যবহার করে, যখন পাশাপাশি দুটি টুইন টার্গেটকে মিডিয়াম ফ্রিকোয়েন্সি পাওয়ার সাপ্লাইয়ের সাথে সংযুক্ত করা হয়, তখন এটি কেবল ডিসি স্পাটারিং, আগুন এবং অন্যান্য অসুবিধাগুলির টার্গেট পয়জনিং কাটিয়ে ওঠে না; এবং Al2O3, SiO2 অক্সাইড মানের ফিল্ম জমা করতে পারে, যার ফলে কোটিং করা অংশগুলির জারণ প্রতিরোধ ক্ষমতা বৃদ্ধি পায় এবং উন্নত হয়। ভ্যাকুয়াম চেম্বারের কেন্দ্রে কলামার মাল্টি-আর্ক টার্গেট স্থাপন করা হয়, টার্গেট উপাদান হিসাবে Ti এবং Zr ব্যবহার করা যেতে পারে, যা কেবল উচ্চ মাল্টি-আর্ক বিয়োজন হার, জমার হারের সুবিধাগুলি বজায় রাখে না, বরং ছোট প্লেন মাল্টি-আর্ক টার্গেট জমার প্রক্রিয়ায় "ড্রপলেট" কার্যকরভাবে হ্রাস করতে পারে, এবং কম ছিদ্রযুক্ত ধাতব ফিল্ম, যৌগিক ফিল্ম জমা এবং প্রস্তুত করতে পারে। যদি পরিধিতে স্থাপিত টুইন প্ল্যানার ম্যাগনেট্রন টার্গেটগুলির জন্য টার্গেট উপাদান হিসাবে Al এবং Si ব্যবহার করা হয়, তবে Al2O3 বা SiO মেটাল-সিরামিক ফিল্ম জমা এবং প্রস্তুত করা যেতে পারে। এছাড়াও, পরিধিতে মাল্টি-আর্ক ইভাপোরেশন সোর্সের একাধিক ক্ষুদ্র স্তর স্থাপন করা যেতে পারে, এবং এর টার্গেট উপাদান হিসেবে ক্রোমিয়াম (Cr) বা নিকেল (Ni) ব্যবহার করে ধাতব ফিল্ম এবং বহুস্তরীয় যৌগিক ফিল্ম জমা ও প্রস্তুত করা যায়। সুতরাং, এই যৌগিক আবরণ প্রযুক্তিটি একটি বহুমুখী প্রয়োগক্ষেত্র সম্পন্ন প্রযুক্তি।
পোস্ট করার সময়: ০৮-নভেম্বর-২০২২