Os equipamentos de revestimento composto por pulverização catódica magnetrônica e revestimento iônico catódico multiarco podem funcionar separadamente e simultaneamente; podem depositar e preparar filmes de metal puro, filmes de compostos metálicos ou filmes compostos; podem ser filmes de camada única ou filmes compostos multicamadas.
Suas vantagens são as seguintes:
Ele não só combina as vantagens de vários revestimentos iônicos e leva em consideração a preparação e deposição de filmes finos para diversas áreas de aplicação, como também permite a deposição e preparação de filmes monolíticos multicamadas ou filmes compósitos multicamadas na mesma câmara de revestimento a vácuo, simultaneamente.
As aplicações de camadas de filme depositadas são amplamente utilizadas, e suas tecnologias se apresentam em diversas formas, sendo as mais típicas as seguintes:
(1) O composto da tecnologia de pulverização catódica por magnetron de não equilíbrio e revestimento iônico catódico.
O equipamento é mostrado a seguir. Trata-se de um equipamento de revestimento composto por alvo magnetron colunar e revestimento iônico por arco catódico planar, adequado tanto para revestimento de ferramentas quanto para revestimento decorativo. Para o revestimento de ferramentas, o revestimento iônico por arco catódico é utilizado primeiro para a camada base, e em seguida o alvo magnetron colunar é utilizado para a deposição de nitreto e outras camadas, obtendo-se assim um revestimento de alta precisão para a superfície da ferramenta.
Para revestimento decorativo, filmes decorativos de TiN e ZrN podem ser depositados primeiro por revestimento de arco catódico e, em seguida, dopados com metal usando alvos de magnetron, sendo o efeito de dopagem muito bom.
(2) A combinação das técnicas de revestimento por magnetron plano duplo e arco catódico colunar. O dispositivo é mostrado a seguir. Utiliza-se a tecnologia avançada de alvo duplo, onde dois alvos gêmeos lado a lado, conectados a uma fonte de alimentação de média frequência, supera-se o envenenamento do alvo, o risco de incêndio e outras desvantagens da pulverização catódica CC; além disso, é possível depositar filmes de óxido de Al2O3 e SiO2 de alta qualidade, aumentando e melhorando a resistência à oxidação das peças revestidas. O alvo multiarco colunar é instalado no centro da câmara de vácuo, podendo ser utilizado Ti e Zr como materiais de alvo. Isso não só mantém as vantagens da alta taxa de dissociação e deposição do multiarco, como também reduz efetivamente a formação de gotículas no processo de deposição com alvo multiarco plano pequeno, permitindo a deposição e preparação de filmes metálicos e compostos com baixa porosidade. Se Al e Si forem utilizados como materiais de alvo para os alvos de magnetron plano duplo instalados na periferia, filmes metal-cerâmicos de Al2O3 ou SiO2 podem ser depositados e preparados. Além disso, múltiplas pequenas fontes de evaporação multiarco podem ser instaladas na periferia, e seu material alvo pode ser Cr ou Ni, permitindo a deposição e preparação de filmes metálicos e filmes compósitos multicamadas. Portanto, essa tecnologia de revestimento compósito possui múltiplas aplicações.
Data da publicação: 08/11/2022