L'equipaggiu di rivestimentu cumpostu di magnetron sputtering è catodic multi-arc ion coating pò travaglià separatamente è simultaneamente;pò esse dipositu è preparatu film di metallu puro, film compostu di metallu o film compostu;pò esse una sola capa di film è un film compostu multi-layer.
I so vantaghji cum'è seguita:
Ùn solu unisce i vantaghji di diversi rivestimenti di ioni è piglia in contu a preparazione è a deposizione di film sottile per diversi campi d'applicazione, ma permette ancu a deposizione è a preparazione di film monoliti multi-layer o film composite multi-layer in u stessu vacuum. camera di rivestimentu in una volta.
L'applicazioni di strati di film dipositu sò largamente usate e so tecnulugia sò in una varietà di forme, e tipiche cum'è seguita:
(1) U cumpostu di sputtering magnetron non-equilibriu è tecnulugia di plating ion cathodic.
U so dispusitivu hè mostratu cum'è seguita.Hè un equipamentu di rivestimentu cumpostu di mira di magnetron colonnare è rivestimentu di ioni d'arcu catodicu planare, chì hè adattatu sia per u film compostu di rivestimentu d'uttellu sia per u film decorativu.Per u revestimentu di l'utensili, u revestimentu di ioni di l'arcu catodicu hè utilizatu prima per u revestimentu di a capa di basa, è dopu l'obiettivu di a colonna magnetron hè utilizatu per a deposizione di nitruri è altri strati di film per ottene una film di superficia di strumentu di trasfurmazioni d'alta precisione.
Per u revestimentu decorativu, i filmi decorativi TiN è ZrN ponu esse dipositu prima da u revestimentu d'arcu catodicu, è dopu dopatu cù u metale cù mira di magnetron, è l'effettu doping hè assai bonu.
(2) U cumpostu di tecnichi di rivestimentu di ioni d'arcu di catodu di colonna di magnetroni di u pianu gemellu.U dispusitivu hè mostratu cum'è seguita.Hè utilizatu a tecnulugia avanzata di u target twin, quandu dui obbiettivi gemelli side-by-side ligati à u supply d'energia di freccia media, ùn solu supera l'avvelenamentu di u scopu di DC sputtering, u focu è altri inconvenienti;è ponu dipositu Al203, film di qualità d'ossidu SiO2, perchè a resistenza à l'ossidazione di e parti rivestite anu aumentatu è migliuratu.Obiettivu multi-arcu di colonna installatu in u centru di a camera di vacuum, u materiale di destinazione pò esse usatu Ti è Zr, micca solu per mantene i vantaghji di una alta velocità di dissociazione multi-arcu, a tarifa di depositu, ma ancu pò riduce efficacemente "gocce" in lu prucessu di dipusizioni di mira multi-arcu picculu pianu, pò dipositu è priparà un bassu porosità di filmi metalli, film cumposti.Se l'Al è u Si sò usati cum'è i materiali di destinazione per i miri di magnetroni planari gemelli installati à a periferia, i filmi di ceramica di metallo Al203 o Si0 ponu esse dipositati è preparati.Inoltre, parechji picculi piani di fonte di evaporazione multi-arcu pò esse stallati à a periferia, è u so materiale di destinazione pò esse Cr o Ni, è i filmi metallichi è i filmi compositi multilayer ponu esse dipositati è preparati.Per quessa, sta tecnulugia di revestimentu cumpostu hè una tecnulugia di revestimentu cumpostu cù parechje applicazioni.
Tempu di Postu: Nov-08-2022