मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग और कैथोडिक मल्टी-आर्क आयन कोटिंग कंपोजिट प्रौद्योगिकी

मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग और कैथोडिक मल्टी-आर्क आयन कोटिंग के मिश्रित कोटिंग उपकरण अलग-अलग और एक साथ काम कर सकते हैं; शुद्ध धातु फिल्म, धातु यौगिक फिल्म या मिश्रित फिल्म को जमा और तैयार किया जा सकता है; यह एकल परत वाली फिल्म और बहु-परत मिश्रित फिल्म हो सकती है।

इसके निम्नलिखित फायदे हैं:
यह न केवल विभिन्न आयन कोटिंग्स के फायदों को जोड़ता है और अनुप्रयोग के विभिन्न क्षेत्रों के लिए पतली फिल्म की तैयारी और जमाव को ध्यान में रखता है, बल्कि एक ही वैक्यूम कोटिंग चैम्बर में एक ही समय में बहु-परत मोनोलिथिक फिल्मों या बहु-परत मिश्रित फिल्मों के जमाव और तैयारी की भी अनुमति देता है।
जमा की गई फिल्म परतों के अनुप्रयोग व्यापक रूप से उपयोग किए जाते हैं और इसकी प्रौद्योगिकियां विभिन्न रूपों में मौजूद हैं, जिनमें से कुछ विशिष्ट रूप निम्नलिखित हैं:
(1) गैर-संतुलन मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग और कैथोडिक आयन प्लेटिंग प्रौद्योगिकी का मिश्रण।
इसका उपकरण नीचे दिखाया गया है। यह स्तंभकार मैग्नेट्रॉन लक्ष्य और समतल कैथोडिक आर्क आयन कोटिंग का एक मिश्रित कोटिंग उपकरण है, जो उपकरण कोटिंग मिश्रित फिल्म और सजावटी फिल्म कोटिंग दोनों के लिए उपयुक्त है। उपकरण कोटिंग के लिए, कैथोडिक आर्क आयन कोटिंग का उपयोग पहले आधार परत कोटिंग के लिए किया जाता है, और फिर नाइट्राइड और अन्य फिल्म परतों के निक्षेपण के लिए स्तंभ मैग्नेट्रॉन लक्ष्य का उपयोग किया जाता है ताकि उच्च परिशुद्धता वाली प्रसंस्करण उपकरण सतह फिल्म प्राप्त की जा सके।
सजावटी कोटिंग के लिए, TiN और ZrN सजावटी फिल्मों को पहले कैथोडिक आर्क कोटिंग द्वारा जमा किया जा सकता है, और फिर मैग्नेट्रॉन लक्ष्यों का उपयोग करके धातु के साथ डोपिंग की जा सकती है, और डोपिंग प्रभाव बहुत अच्छा होता है।

(2) ट्विन प्लेन मैग्नेट्रॉन और कॉलम कैथोड आर्क आयन कोटिंग तकनीकों का संयोजन। उपकरण को नीचे दर्शाया गया है। इसमें उन्नत ट्विन टारगेट तकनीक का उपयोग किया जाता है। जब दो अगल-बगल स्थित ट्विन टारगेट मध्यम आवृत्ति विद्युत आपूर्ति से जुड़े होते हैं, तो यह न केवल डीसी स्पटरिंग, आग और अन्य कमियों के कारण होने वाले टारगेट पॉइज़निंग को दूर करता है, बल्कि Al2O3 और SiO2 ऑक्साइड गुणवत्ता वाली फिल्म भी जमा कर सकता है, जिससे लेपित भागों का ऑक्सीकरण प्रतिरोध बढ़ जाता है और उसमें सुधार होता है। वैक्यूम चैम्बर के केंद्र में स्थापित स्तंभनुमा मल्टी-आर्क टारगेट के लिए, लक्ष्य सामग्री के रूप में Ti और Zr का उपयोग किया जा सकता है। इससे न केवल उच्च मल्टी-आर्क वियोजन दर और निक्षेपण दर के लाभ बरकरार रहते हैं, बल्कि छोटे प्लेन मल्टी-आर्क टारगेट निक्षेपण की प्रक्रिया में "बूंदों" को भी प्रभावी ढंग से कम किया जा सकता है, जिससे कम सरंध्रता वाली धातु फिल्मों और मिश्रित फिल्मों को जमा और तैयार किया जा सकता है। यदि परिधि पर स्थापित ट्विन प्लेनर मैग्नेट्रॉन टारगेट के लिए लक्ष्य सामग्री के रूप में Al और Si का उपयोग किया जाता है, तो Al2O3 या SiO2 धातु-सिरेमिक फिल्मों को जमा और तैयार किया जा सकता है। इसके अतिरिक्त, परिधि पर बहु-चाप वाष्पीकरण स्रोत के कई छोटे तल स्थापित किए जा सकते हैं, और इसका लक्ष्य पदार्थ क्रोमियम या निकेल हो सकता है, जिसके द्वारा धातु फिल्मों और बहुस्तरीय मिश्रित फिल्मों को जमा करके तैयार किया जा सकता है। इसलिए, यह मिश्रित कोटिंग तकनीक कई अनुप्रयोगों वाली मिश्रित कोटिंग तकनीक है।