E mafai ona galulue eseese ma fa'atasi masini ufiufi tu'ufa'atasi o le magnetron sputtering ma le cathodic multi-arc ion coating; e mafai ona teuina ma saunia se ata u'amea mama, ata u'amea tu'ufa'atasi po'o se ata tu'ufa'atasi; e mafai ona avea ma se vaega e tasi o le ata ma se ata tu'ufa'atasi e tele-vaega.
O ona tulaga lelei e pei ona taua i lalo:
E lē gata ina tuʻufaʻatasia ai lelei o le tele o ufiufi ion ma amanaʻia ai le sauniuniga ma le faʻapipiʻiina o ata manifinifi mo vaega eseese o faʻaoga, ae faʻatagaina ai foʻi le faʻapipiʻiina ma le sauniuniga o ata monolithic e tele-vaega poʻo ata tuʻufaʻatasi e tele-vaega i totonu o le potu ufiufi e tasi i le taimi e tasi.
O faʻaoga o vaega ata tifaga ua teuina e faʻaaogaina lautele, o ona tekinolosi e eseese ituaiga, o mea masani e pei ona taua i lalo:
(1) O le tu'ufa'atasiga o le non-equilibrium magnetron sputtering ma le cathodic ion plating technology.
O lona masini o loʻo faʻaalia e pei ona taua i lalo. O se masini ufiufi tuʻufaʻatasi o le columnar magnetron target ma le planar cathodic arc ion coating, lea e talafeagai mo le vali meafaigaluega ma le vali teuteu. Mo le vali meafaigaluega, o le vali cathodic arc ion e faʻaaogaina muamua mo le valiina o le vaega autu, ona faʻaaogaina lea o le column magnetron target mo le faʻaputuina o le nitride ma isi vaega vali e maua ai se vali meafaigaluega e maualuga le saʻo.
Mo le ufiufi teuteu, e mafai ona fa'apipi'i muamua ata teuteu TiN ma ZrN e ala i le ufiufi cathodic arc, ona fa'apipi'i lea i u'amea e fa'aaoga ai magnetron targets, ma e matua'i lelei lava le aafiaga o le doping.
(2) O le tu'ufa'atasiga o le magnetron va'alele e lua ma le column cathode arc ion coating techniques. O le masini o lo'o fa'aalia e pei ona taua i lalo. E fa'aaogaina le tekinolosi fa'apitoa o le twin target, pe a fa'apipi'i ni twin target se lua i autafa i le sapalai eletise feololo, e le gata ina fa'ato'ilaloina ai le fa'aleagaina o le sini e ala i le DC sputtering, afi ma isi fa'aletonu; ma e mafai ona teuina le Al203, SiO2 oxide quality film, ina ia fa'ateleina ma fa'aleleia atili ai le tete'e atu i le oxidation o vaega ua ufiufi. O le columnar multi-arc target e fa'apipi'i i le ogatotonu o le vacuum chamber, e mafai ona fa'aaogaina le mea e fa'amoemoe i ai le Ti ma le Zr, e le gata ina fa'atumauina ai le lelei o le maualuga o le multi-arc dissociation rate, deposition rate, ae mafai fo'i ona fa'aitiitia lelei "droplets" i le fa'agasologa o le small plane multi-arc target deposition, e mafai ona teuina ma saunia se porosity maualalo o ata u'amea, ata tu'ufa'atasi. Afai e fa'aaogaina le Al ma le Si o ni mea e fa'amoemoe i ai mo le twin planar magnetron targets e fa'apipi'i i le periphery, e mafai ona teuina ma saunia ata u'amea-ceramic Al203 po'o le Si0. E le gata i lea, e mafai ona fa'apipi'i ni va'a laiti se tele o le puna o le fa'amamago e tele-arc i le itu i fafo, ma o lona mea fa'amoemoe e mafai ona avea ma Cr po'o Ni, ma e mafai ona fa'aputu ma saunia ni ata u'amea ma ni ata tu'ufa'atasi e tele vaega. O le mea lea, o lenei tekinolosi ufiufi tu'ufa'atasi o se tekinolosi ufiufi tu'ufa'atasi e tele fa'aoga.
Taimi na lafoina ai: Nov-08-2022