Обладнання для композитного покриття магнетронним розпиленням та катодним багатодуговим іонним покриттям може працювати окремо та одночасно; може наносити та готувати чисту металеву плівку, металеву композитну плівку або композитну плівку; може бути одношаровою плівкою та багатошаровою композитною плівкою.
Його переваги такі:
Він не тільки поєднує переваги різних іонних покриттів та враховує підготовку та осадження тонких плівок для різних галузей застосування, але й дозволяє одночасно осаджувати та готувати багатошарові монолітні плівки або багатошарові композитні плівки в одній вакуумній камері для покриття.
Застосування нанесених плівкових шарів широко використовується, а технології мають різноманітні форми, типові з яких такі:
(1) Поєднання технології нерівноважного магнетронного розпилення та катодного іонного покриття.
Його пристрій показано нижче. Це обладнання для нанесення складного покриття на основі стовпчастої магнетронної мішені та планарного катодно-дугового іонного покриття, яке підходить як для нанесення складного шару на інструмент, так і для нанесення декоративної плівки. Для покриття інструменту катодно-дугове іонне покриття спочатку використовується для нанесення базового шару, а потім стовпчаста магнетронна мішень використовується для осадження нітридних та інших плівкових шарів для отримання високоточної плівки на поверхні інструменту.
Для декоративного покриття декоративні плівки TiN та ZrN можна спочатку наносити катодно-дуговим методом, а потім легувати металом за допомогою магнетронних мішеней, і ефект легування дуже хороший.
(2) Технологія іонного покриття двома площинними магнетронами та колонковим катодом з дуговим покриттям. Пристрій показано нижче. У ньому використовується передова технологія подвійних мішеней, коли дві подвійні мішені, розташовані поруч, підключені до джерела живлення середньої частоти, це не тільки усуває отруєння мішені постійним струмом, займання та інші недоліки; а також дозволяє наносити плівку якості оксиду Al203, SiO2, завдяки чому стійкість покритих деталей до окислення підвищується та покращується. Стовпчаста багатодугова мішень, встановлена в центрі вакуумної камери, матеріалом мішені може бути Ti та Zr, що не тільки підтримує переваги високої швидкості дисоціації та швидкості нанесення покриття, але й ефективно зменшує утворення "крапель" у процесі осадження дрібних площинних багатодугових мішеней, що дозволяє наносити та готувати металеві плівки з низькою пористістю, складні плівки. Якщо Al та Si використовуються як матеріали мішені для подвійних планарних магнетронних мішеней, встановлених на периферії, можна наносити та готувати металокерамічні плівки Al203 або Si0. Крім того, на периферії можна встановити кілька невеликих площин багатодугового джерела випаровування, а його цільовим матеріалом може бути Cr або Ni, а також можна наносити та готувати металеві плівки та багатошарові композитні плівки. Таким чином, ця технологія композитного покриття є технологією композитного покриття з багатьма застосуваннями.
Час публікації: 08 листопада 2022 р.