เครื่องเคลือบสูญญากาศมีกระบวนการอะไรบ้าง หลักการทำงานเป็นอย่างไร

การการเคลือบสูญญากาศกระบวนการเครื่องจักรแบ่งออกเป็น: การเคลือบด้วยการระเหยสูญญากาศ การเคลือบด้วยการสปัตเตอร์สูญญากาศ และการเคลือบไอออนสูญญากาศ

1、การเคลือบระเหยสูญญากาศ

ภายใต้สภาวะสุญญากาศ ทำให้วัสดุระเหย เช่น โลหะ โลหะผสม ฯลฯ แล้วจึงสะสมไว้บนพื้นผิววัสดุ วิธีการเคลือบด้วยการระเหย มักใช้ความร้อนแบบต้านทาน จากนั้นจึงยิงลำแสงอิเล็กตรอนไปที่วัสดุเคลือบ ทำให้ระเหยเป็นสถานะก๊าซ แล้วสะสมไว้บนพื้นผิววัสดุ โดยทั่วไป การสะสมด้วยไอสุญญากาศเป็นเทคโนโลยีแรกที่ใช้ในวิธีการ PVD

2、การเคลือบแบบสปัตเตอร์

แก๊สจะถูกทำให้มีการคายประจุด้วยแสงภายใต้สภาวะสุญญากาศที่เต็มไปด้วย (Ar) ในขณะนี้ ไอออนของอะตอมอาร์กอน (Ar) จะเคลื่อนที่ไปในทิศทางตรงข้ามกับไอออนของไนโตรเจน (Ar) ไอออนเหล่านี้จะถูกเร่งด้วยแรงของสนามไฟฟ้า และพุ่งไปที่เป้าหมายแคโทดซึ่งทำจากวัสดุเคลือบ เป้าหมายจะถูกพ่นออกมาและตกตะกอนบนพื้นผิวของสารตั้งต้น ไอออนที่เกิดขึ้นในการพ่นเคลือบแบบพ่น ซึ่งโดยทั่วไปได้จากการคายประจุด้วยแสง จะอยู่ในช่วง 10-2pa ถึง 10Pa ดังนั้น อนุภาคที่ถูกพ่นออกมาจึงชนกับโมเลกุลของแก๊สในห้องสุญญากาศได้ง่ายเมื่อพุ่งเข้าหาสารตั้งต้น ทำให้ทิศทางการเคลื่อนที่เป็นแบบสุ่ม และทำให้ฟิล์มที่พ่นออกมามีความหนาแน่นสม่ำเสมอ

3、การเคลือบไอออน

ภายใต้สภาวะสุญญากาศ ภายใต้สภาวะสุญญากาศ ใช้เทคนิคการแตกตัวของพลาสมาเพื่อแตกตัวเป็นไอออนบางส่วนจากอะตอมของวัสดุเคลือบให้กลายเป็นไอออน ในเวลาเดียวกัน อะตอมที่เป็นกลางที่มีพลังงานสูงจำนวนมากก็ถูกผลิตขึ้น ซึ่งมีอคติเชิงลบต่อพื้นผิว ด้วยวิธีนี้ ไอออนจะถูกสะสมบนพื้นผิวของพื้นผิวภายใต้อคติเชิงลบที่ลึกเพื่อสร้างฟิล์มบางๆ