మాగ్నెట్రాన్ స్పట్టరింగ్ మరియు కాథోడిక్ మల్టీ-ఆర్క్ అయాన్ పూత మిశ్రమ సాంకేతికత

మాగ్నెట్రాన్ స్పుట్టరింగ్ మరియు కాథోడిక్ మల్టీ-ఆర్క్ అయాన్ పూత యొక్క కాంపోజిట్ పూత పరికరాలు విడివిడిగా మరియు ఏకకాలంలో పనిచేయగలవు; స్వచ్ఛమైన మెటల్ ఫిల్మ్, మెటల్ కాంపౌండ్ ఫిల్మ్ లేదా కాంపోజిట్ ఫిల్మ్‌ను డిపాజిట్ చేసి తయారు చేయవచ్చు; ఫిల్మ్ యొక్క ఒకే పొర మరియు బహుళ-పొర కాంపోజిట్ ఫిల్మ్ కావచ్చు.

దీని ప్రయోజనాలు క్రింది విధంగా ఉన్నాయి:
ఇది వివిధ అయాన్ పూతల ప్రయోజనాలను మిళితం చేయడమే కాకుండా, వివిధ అప్లికేషన్ రంగాలకు సన్నని ఫిల్మ్ తయారీ మరియు నిక్షేపణను పరిగణనలోకి తీసుకుంటుంది, అలాగే ఒకే వాక్యూమ్ కోటింగ్ చాంబర్‌లో ఒకేసారి బహుళ-పొర మోనోలిథిక్ ఫిల్మ్‌లు లేదా బహుళ-పొర మిశ్రమ ఫిల్మ్‌లను నిక్షేపణ మరియు తయారీకి కూడా అనుమతిస్తుంది.
డిపాజిట్ చేయబడిన ఫిల్మ్ పొరల అనువర్తనాలు విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతున్నాయి, దాని సాంకేతికతలు వివిధ రూపాల్లో ఉన్నాయి, విలక్షణమైనవి క్రింది విధంగా ఉన్నాయి:
(1) సమతుల్యత లేని మాగ్నెట్రాన్ స్పట్టరింగ్ మరియు కాథోడిక్ అయాన్ ప్లేటింగ్ టెక్నాలజీ సమ్మేళనం.
దీని పరికరం ఈ క్రింది విధంగా చూపబడింది. ఇది స్తంభ మాగ్నెట్రాన్ టార్గెట్ మరియు ప్లానార్ కాథోడిక్ ఆర్క్ అయాన్ కోటింగ్ యొక్క కాంపౌండ్ కోటింగ్ పరికరం, ఇది టూల్ కోటింగ్ కాంపౌండ్ ఫిల్మ్ మరియు డెకరేటివ్ ఫిల్మ్ కోటింగ్ రెండింటికీ అనుకూలంగా ఉంటుంది. టూల్ కోటింగ్ కోసం, కాథోడిక్ ఆర్క్ అయాన్ కోటింగ్‌ను మొదట బేస్ లేయర్ కోటింగ్ కోసం ఉపయోగిస్తారు, ఆపై కాలమ్ మాగ్నెట్రాన్ టార్గెట్‌ను నైట్రైడ్ మరియు ఇతర ఫిల్మ్ లేయర్‌ల నిక్షేపణ కోసం అధిక-ఖచ్చితమైన ప్రాసెసింగ్ టూల్ సర్ఫేస్ ఫిల్మ్‌ను పొందేందుకు ఉపయోగిస్తారు.
అలంకార పూత కోసం, TiN మరియు ZrN అలంకార ఫిల్మ్‌లను ముందుగా కాథోడిక్ ఆర్క్ పూత ద్వారా జమ చేయవచ్చు, ఆపై మాగ్నెట్రాన్ లక్ష్యాలను ఉపయోగించి లోహంతో డోపింగ్ చేయవచ్చు మరియు డోపింగ్ ప్రభావం చాలా మంచిది.

(2) ట్విన్ ప్లేన్ మాగ్నెట్రాన్ మరియు కాలమ్ కాథోడ్ ఆర్క్ అయాన్ పూత పద్ధతుల సమ్మేళనం. పరికరం ఈ క్రింది విధంగా చూపబడింది. ఇది అధునాతన ట్విన్ టార్గెట్ టెక్నాలజీని ఉపయోగిస్తుంది, రెండు సైడ్-బై-సైడ్ ట్విన్ టార్గెట్‌లను మీడియం ఫ్రీక్వెన్సీ పవర్ సప్లైకి లింక్ చేసినప్పుడు, ఇది DC స్పట్టరింగ్, ఫైర్ మరియు ఇతర లోపాల యొక్క టార్గెట్ పాయిజనింగ్‌ను అధిగమించడమే కాకుండా; మరియు Al203, SiO2 ఆక్సైడ్ క్వాలిటీ ఫిల్మ్‌ను డిపాజిట్ చేయగలదు, తద్వారా పూత పూసిన భాగాల ఆక్సీకరణ నిరోధకత పెరిగింది మరియు మెరుగుపడింది. వాక్యూమ్ చాంబర్ మధ్యలో ఇన్‌స్టాల్ చేయబడిన స్తంభ బహుళ-ఆర్క్ టార్గెట్, టార్గెట్ మెటీరియల్ Ti మరియు Zr లను ఉపయోగించవచ్చు, అధిక బహుళ-ఆర్క్ డిస్సోసియేషన్ రేటు, నిక్షేపణ రేటు యొక్క ప్రయోజనాలను నిర్వహించడానికి మాత్రమే కాకుండా, చిన్న ప్లేన్ మల్టీ-ఆర్క్ టార్గెట్ డిపాజిషన్ ప్రక్రియలో "బిందువులను" సమర్థవంతంగా తగ్గించగలదు, మెటల్ ఫిల్మ్‌లు, కాంపౌండ్ ఫిల్మ్‌ల యొక్క తక్కువ సచ్ఛిద్రతను జమ చేయవచ్చు మరియు సిద్ధం చేయవచ్చు. అంచున ఇన్‌స్టాల్ చేయబడిన ట్విన్ ప్లానర్ మాగ్నెట్రాన్ టార్గెట్‌లకు Al మరియు Si లను టార్గెట్ మెటీరియల్‌గా ఉపయోగిస్తే, Al203 లేదా Si0 మెటల్-సిరామిక్ ఫిల్మ్‌లను జమ చేసి తయారు చేయవచ్చు. అదనంగా, బహుళ-ఆర్క్ బాష్పీభవన మూలం యొక్క బహుళ చిన్న ప్లేన్‌లను అంచు వద్ద వ్యవస్థాపించవచ్చు మరియు దాని లక్ష్య పదార్థం Cr లేదా Ni కావచ్చు మరియు మెటల్ ఫిల్మ్‌లు మరియు బహుళస్థాయి కాంపోజిట్ ఫిల్మ్‌లను నిక్షిప్తం చేసి తయారు చేయవచ్చు. అందువల్ల, ఈ కాంపోజిట్ కోటింగ్ టెక్నాలజీ బహుళ అప్లికేషన్‌లతో కూడిన కాంపోజిట్ కోటింగ్ టెక్నాలజీ.