Добро пожаловать в Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
одиночный_баннер

Технология магнетронного распыления и катодного многодугового ионного покрытия композитных материалов

Источник статьи:Вакуум Zhenhua
Читать:10
Опубликовано:22-11-08

Оборудование для нанесения композитных покрытий методом магнетронного распыления и катодного многодугового ионного покрытия может работать как отдельно, так и одновременно; может наноситься и подготавливаться чистая металлическая пленка, металлическая композитная пленка или композитная пленка; может быть как однослойной, так и многослойной композитной пленкой.

Его преимущества следующие:
Он не только объединяет преимущества различных ионных покрытий и учитывает подготовку и нанесение тонких пленок для различных областей применения, но и позволяет наносить и наносить многослойные монолитные пленки или многослойные композитные пленки в одной и той же вакуумной напылительной камере одновременно.
Широко используются технологии нанесения пленочных слоев в различных формах, типичными из которых являются следующие:
(1) Соединение технологий неравновесного магнетронного распыления и катодного ионного осаждения.
Его устройство показано следующим образом. Это оборудование для нанесения составного покрытия с использованием колончатой ​​магнетронной мишени и плоскостного катодного дугового ионного покрытия, которое подходит как для покрытия инструмента составной пленкой, так и для декоративного пленочного покрытия. Для покрытия инструмента катодное дуговое ионное покрытие используется сначала для покрытия базового слоя, а затем колончатая магнетронная мишень используется для осаждения нитрида и других пленочных слоев для получения высокоточной обрабатывающей поверхностной пленки инструмента.
Для декоративного покрытия декоративные пленки TiN и ZrN можно сначала наносить методом катодной дуги, а затем легировать металлом с помощью магнетронных мишеней, при этом эффект легирования очень хороший.

(2) Соединение двухплоскостного магнетрона и колонного катодного дугового ионного покрытия. Устройство показано следующим образом. Оно использует передовую технологию двух мишеней, когда две бок о бок двойные мишени связаны с источником питания средней частоты, оно не только преодолевает отравление цели распылением постоянного тока, возгорание и другие недостатки; и может осаждать пленку оксида Al2O3, SiO2, так что стойкость к окислению покрытых деталей увеличивается и улучшается. Столбчатая многодуговая мишень, установленная в центре вакуумной камеры, в качестве материала мишени можно использовать Ti и Zr, не только для поддержания преимуществ высокой скорости диссоциации многодуговой, скорости осаждения, но и может эффективно уменьшать «капли» в процессе осаждения малой плоскости многодуговой мишени, может осаждать и готовить низкую пористость металлических пленок, составных пленок. Если Al и Si используются в качестве материалов мишеней для двухплоскостных магнетронных мишеней, установленных на периферии, можно осаждать и готовить металлокерамические пленки Al2O3 или Si0. Кроме того, на периферии можно установить несколько небольших плоскостей источника испарения с несколькими дугами, а его целевым материалом может быть Cr или Ni, а также можно наносить и готовить металлические пленки и многослойные композитные пленки. Таким образом, эта технология композитного покрытия является технологией композитного покрытия с множественными применениями.


Время публикации: 08.11.2022