ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਸਪਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਕੈਥੋਡਿਕ ਮਲਟੀ-ਆਰਕ ਆਇਨ ਕੋਟਿੰਗ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਤਕਨਾਲੋਜੀ

ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਸਪਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਕੈਥੋਡਿਕ ਮਲਟੀ-ਆਰਕ ਆਇਨ ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਕੋਟਿੰਗ ਉਪਕਰਣ ਵੱਖਰੇ ਤੌਰ 'ਤੇ ਅਤੇ ਇੱਕੋ ਸਮੇਂ ਕੰਮ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ; ਜਮ੍ਹਾ ਕੀਤੇ ਜਾ ਸਕਦੇ ਹਨ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧ ਧਾਤ ਫਿਲਮ, ਧਾਤ ਮਿਸ਼ਰਿਤ ਫਿਲਮ ਜਾਂ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਫਿਲਮ ਤਿਆਰ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ; ਫਿਲਮ ਦੀ ਇੱਕ ਪਰਤ ਅਤੇ ਇੱਕ ਮਲਟੀ-ਲੇਅਰ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਫਿਲਮ ਹੋ ਸਕਦੀ ਹੈ।

ਇਸਦੇ ਫਾਇਦੇ ਇਸ ਪ੍ਰਕਾਰ ਹਨ:
ਇਹ ਨਾ ਸਿਰਫ਼ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਆਇਨ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਦੇ ਫਾਇਦਿਆਂ ਨੂੰ ਜੋੜਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ ਦੇ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਖੇਤਰਾਂ ਲਈ ਪਤਲੀ ਫਿਲਮ ਦੀ ਤਿਆਰੀ ਅਤੇ ਜਮ੍ਹਾਂ ਕਰਨ ਨੂੰ ਧਿਆਨ ਵਿੱਚ ਰੱਖਦਾ ਹੈ, ਸਗੋਂ ਇੱਕੋ ਸਮੇਂ ਇੱਕੋ ਵੈਕਿਊਮ ਕੋਟਿੰਗ ਚੈਂਬਰ ਵਿੱਚ ਮਲਟੀ-ਲੇਅਰ ਮੋਨੋਲਿਥਿਕ ਫਿਲਮਾਂ ਜਾਂ ਮਲਟੀ-ਲੇਅਰ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਫਿਲਮਾਂ ਨੂੰ ਜਮ੍ਹਾਂ ਕਰਨ ਅਤੇ ਤਿਆਰ ਕਰਨ ਦੀ ਵੀ ਆਗਿਆ ਦਿੰਦਾ ਹੈ।
ਜਮ੍ਹਾਂ ਹੋਈ ਫਿਲਮ ਪਰਤਾਂ ਦੇ ਉਪਯੋਗ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤੇ ਜਾਂਦੇ ਹਨ। ਇਸ ਦੀਆਂ ਤਕਨਾਲੋਜੀਆਂ ਕਈ ਰੂਪਾਂ ਵਿੱਚ ਹਨ, ਜਿਨ੍ਹਾਂ ਵਿੱਚੋਂ ਆਮ ਹੇਠ ਲਿਖੇ ਅਨੁਸਾਰ ਹਨ:
(1) ਗੈਰ-ਸੰਤੁਲਨ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਸਪਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਕੈਥੋਡਿਕ ਆਇਨ ਪਲੇਟਿੰਗ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦਾ ਮਿਸ਼ਰਣ।
ਇਸਦਾ ਯੰਤਰ ਇਸ ਪ੍ਰਕਾਰ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ। ਇਹ ਕਾਲਮਨਰ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਟਾਰਗੇਟ ਅਤੇ ਪਲੇਨਰ ਕੈਥੋਡਿਕ ਆਰਕ ਆਇਨ ਕੋਟਿੰਗ ਦਾ ਇੱਕ ਮਿਸ਼ਰਿਤ ਕੋਟਿੰਗ ਉਪਕਰਣ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਟੂਲ ਕੋਟਿੰਗ ਕੰਪਾਊਂਡ ਫਿਲਮ ਅਤੇ ਸਜਾਵਟੀ ਫਿਲਮ ਕੋਟਿੰਗ ਦੋਵਾਂ ਲਈ ਢੁਕਵਾਂ ਹੈ। ਟੂਲ ਕੋਟਿੰਗ ਲਈ, ਕੈਥੋਡਿਕ ਆਰਕ ਆਇਨ ਕੋਟਿੰਗ ਪਹਿਲਾਂ ਬੇਸ ਲੇਅਰ ਕੋਟਿੰਗ ਲਈ ਵਰਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਫਿਰ ਕਾਲਮ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਟਾਰਗੇਟ ਨੂੰ ਨਾਈਟਰਾਈਡ ਅਤੇ ਹੋਰ ਫਿਲਮ ਲੇਅਰਾਂ ਦੇ ਜਮ੍ਹਾਂ ਕਰਨ ਲਈ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਤਾਂ ਜੋ ਇੱਕ ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਟੂਲ ਸਤਹ ਫਿਲਮ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕੇ।
ਸਜਾਵਟੀ ਕੋਟਿੰਗ ਲਈ, TiN ਅਤੇ ZrN ਸਜਾਵਟੀ ਫਿਲਮਾਂ ਨੂੰ ਪਹਿਲਾਂ ਕੈਥੋਡਿਕ ਆਰਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਜਮ੍ਹਾ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਫਿਰ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਟਾਰਗੇਟਾਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਧਾਤ ਨਾਲ ਡੋਪ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਡੋਪਿੰਗ ਪ੍ਰਭਾਵ ਬਹੁਤ ਵਧੀਆ ਹੈ।

(2) ਟਵਿਨ ਪਲੇਨ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਅਤੇ ਕਾਲਮ ਕੈਥੋਡ ਆਰਕ ਆਇਨ ਕੋਟਿੰਗ ਤਕਨੀਕਾਂ ਦਾ ਮਿਸ਼ਰਣ। ਡਿਵਾਈਸ ਨੂੰ ਹੇਠ ਲਿਖੇ ਅਨੁਸਾਰ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ। ਇਹ ਉੱਨਤ ਟਵਿਨ ਟਾਰਗੇਟ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਜਦੋਂ ਦੋ ਨਾਲ-ਨਾਲ ਜੁੜਵੇਂ ਟਾਰਗੇਟ ਮੱਧਮ ਫ੍ਰੀਕੁਐਂਸੀ ਪਾਵਰ ਸਪਲਾਈ ਨਾਲ ਜੁੜੇ ਹੁੰਦੇ ਹਨ, ਇਹ ਨਾ ਸਿਰਫ ਡੀਸੀ ਸਪਟਰਿੰਗ, ਅੱਗ ਅਤੇ ਹੋਰ ਕਮੀਆਂ ਦੇ ਟਾਰਗੇਟ ਜ਼ਹਿਰ ਨੂੰ ਦੂਰ ਕਰਦਾ ਹੈ; ਅਤੇ Al203, SiO2 ਆਕਸਾਈਡ ਗੁਣਵੱਤਾ ਵਾਲੀ ਫਿਲਮ ਜਮ੍ਹਾ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਜੋ ਕੋਟੇਡ ਹਿੱਸਿਆਂ ਦਾ ਆਕਸੀਕਰਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਵਧਿਆ ਅਤੇ ਸੁਧਾਰਿਆ ਗਿਆ ਹੋਵੇ। ਵੈਕਿਊਮ ਚੈਂਬਰ ਦੇ ਕੇਂਦਰ ਵਿੱਚ ਸਥਾਪਤ ਕਾਲਮਨਰ ਮਲਟੀ-ਆਰਕ ਟਾਰਗੇਟ, ਟਾਰਗੇਟ ਸਮੱਗਰੀ ਨੂੰ Ti ਅਤੇ Zr ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਨਾ ਸਿਰਫ ਉੱਚ ਮਲਟੀ-ਆਰਕ ਡਿਸੋਸੀਏਸ਼ਨ ਦਰ, ਜਮ੍ਹਾ ਦਰ ਦੇ ਫਾਇਦਿਆਂ ਨੂੰ ਬਣਾਈ ਰੱਖਣ ਲਈ, ਸਗੋਂ ਛੋਟੇ ਪਲੇਨ ਮਲਟੀ-ਆਰਕ ਟਾਰਗੇਟ ਡਿਪੋਜ਼ੀਸ਼ਨ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿੱਚ "ਬੂੰਦਾਂ" ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਘਟਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਮੈਟਲ ਫਿਲਮਾਂ, ਮਿਸ਼ਰਿਤ ਫਿਲਮਾਂ ਦੀ ਘੱਟ ਪੋਰੋਸਿਟੀ ਜਮ੍ਹਾ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਤਿਆਰ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਜੇਕਰ ਅਲ ਅਤੇ ਸੀ ਨੂੰ ਪੈਰੀਫੇਰੀ 'ਤੇ ਸਥਾਪਤ ਟਵਿਨ ਪਲੇਨਰ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਟਾਰਗੇਟਾਂ ਲਈ ਟਾਰਗੇਟ ਸਮੱਗਰੀ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ Al203 ਜਾਂ Si0 ਮੈਟਲ-ਸਿਰੇਮਿਕ ਫਿਲਮਾਂ ਜਮ੍ਹਾ ਅਤੇ ਤਿਆਰ ਕੀਤੀਆਂ ਜਾ ਸਕਦੀਆਂ ਹਨ। ਇਸ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਪੈਰੀਫੇਰੀ 'ਤੇ ਮਲਟੀ-ਆਰਕ ਵਾਸ਼ਪੀਕਰਨ ਸਰੋਤ ਦੇ ਕਈ ਛੋਟੇ ਪਲੇਨ ਸਥਾਪਿਤ ਕੀਤੇ ਜਾ ਸਕਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਇਸਦਾ ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਮੱਗਰੀ Cr ਜਾਂ Ni ਹੋ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਧਾਤ ਦੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਅਤੇ ਮਲਟੀਲੇਅਰ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਫਿਲਮਾਂ ਨੂੰ ਜਮ੍ਹਾ ਅਤੇ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਇਸ ਲਈ, ਇਹ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਕੋਟਿੰਗ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਕਈ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਵਾਲੀ ਇੱਕ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਕੋਟਿੰਗ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਹੈ।