Amûrên pêçandina kompozît ên sputterkirina magnetronê û pêçandina katodîk a pir-arc iyonê dikarin ji hev cuda û di heman demê de bixebitin; dikarin fîlma metalê ya saf, fîlma tevlihev a metal an fîlma kompozît werin danîn û amadekirin; dikarin bibin fîlmek yek-qat û fîlmek kompozît a pir-qat.
Wekî avantajên wê yên jêrîn:
Ew ne tenê avantajên cûrbecûr pêçanên îyonî bi hev re dike yek û amadekirin û danîna fîlma tenik ji bo qadên cûrbecûr ên serîlêdanê li ber çavan digire, lê di heman demê de dihêle ku fîlmên monolîtîk ên pir-qatî an fîlmên kompozît ên pir-qatî di heman odeya pêçana valahiyê de di carekê de werin danîn û amadekirin.
Serlêdanên qatên fîlmê yên razandî bi berfirehî têne bikar anîn, teknolojiyên wan bi gelek şêweyan in, yên tîpîk ev in:
(1) Têkelê teknolojiya sputterkirina magnetronê ya ne-hevseng û plakaya îyonê katodîk.
Amûrê wê wiha tê nîşandan. Ew amûrek pêçandina tevlihev a hedefa magnetronê ya stûnî û pêçandina îyonên kevana katodîk a planar e, ku hem ji bo pêçandina fîlma tevlihev a amûran û hem jî ji bo pêçandina fîlma xemilandî guncaw e. Ji bo pêçandina amûran, pêçandina îyonên kevana katodîk pêşî ji bo pêçandina qata bingehîn tê bikar anîn, û dûv re hedefa magnetronê ya stûn ji bo danîna nîtrîd û qatên fîlmê yên din tê bikar anîn da ku fîlmek rûyê amûrê ya pêvajoya rastbûna bilind were bidestxistin.
Ji bo pêçandina xemilandî, fîlmên xemilandî yên TiN û ZrN dikarin pêşî bi pêçandina kevana katodîk werin razandin, û dûv re bi karanîna hedefên magnetronê bi metalê ve werin dopkirin, û bandora dopkirinê pir baş e.
(2) Teknîkên pêçandina îyonê ya magnetrona duqatî û teknîkên pêçandina îyonê ya katoda stûnê. Amûr wekî jêrîn tê nîşandan. Ew teknolojiya hedefa duqatî ya pêşkeftî bikar tîne, dema ku du hedefên duqatî yên li kêleka hev bi dabînkirina hêza frekansa navîn ve girêdayî ne, ew ne tenê jehrîbûna hedefê ya sputterkirina DC, agir û kêmasiyên din derbas dike; û dikare fîlima kalîteya oksîda Al203, SiO2 razîne, da ku berxwedana oksîdasyonê ya beşên pêçayî zêde û baştir bibe. Hedefa pir-kevan a stûnî di navenda odeya valahiyê de hatî saz kirin, materyalê hedef dikare Ti û Zr were bikar anîn, ne tenê ji bo parastina avantajên rêjeya veqetandina pir-kevan a bilind, rêjeya danînê, lê di heman demê de dikare bi bandor "dilopan" di pêvajoya danîna hedefa pir-kevan a piçûk a balafirê de kêm bike, dikare fîlimên metalî yên porozîteya nizm, fîlimên tevlihev, danîn û amadekirin. Ger Al û Si wekî materyalên hedef ji bo hedefên magnetron ên duqatî yên planar ên li derdorê hatine saz kirin werin bikar anîn, fîlimên metal-seramîk ên Al203 an Si0 dikarin werin danîn û amadekirin. Herwiha, gelek balafirên piçûk ên çavkaniya buharbûna pir-kevanî dikarin li derdorê werin sazkirin, û materyalê wê yê hedef dikare Cr an Ni be, û fîlmên metalî û fîlmên kompozît ên pirqatî dikarin werin danîn û amadekirin. Ji ber vê yekê, ev teknolojiya pêçandina kompozît teknolojiyek pêçandina kompozît e ku gelek sepan hene.
Dema weşandinê: 08-11-2022