L'équipement de revêtement composite de pulvérisation magnétron et de revêtement ionique multi-arc cathodique peut fonctionner séparément et simultanément ; peut être déposé et préparé un film métallique pur, un film composé métallique ou un film composite ; peut être une seule couche de film et un film composite multicouche.
Ses avantages sont les suivants :
Il combine non seulement les avantages de divers revêtements ioniques et prend en compte la préparation et le dépôt de films minces pour divers domaines d'application, mais permet également le dépôt et la préparation de films monolithiques multicouches ou de films composites multicouches dans la même chambre de revêtement sous vide à la fois.
Les applications des couches de films déposées sont largement utilisées, ses technologies se présentent sous diverses formes, les plus typiques étant les suivantes :
(1) Le composé de la technologie de pulvérisation magnétron hors équilibre et de placage ionique cathodique.
Son dispositif est présenté ci-dessous. Il s'agit d'un équipement de revêtement composite composé d'une cible magnétron à colonne et d'un revêtement ionique à arc cathodique planaire, adapté au revêtement d'outils par film composite et par film décoratif. Pour le revêtement d'outils, le revêtement ionique à arc cathodique est d'abord utilisé pour le revêtement de la couche de base, puis la cible magnétron à colonne est utilisée pour le dépôt de nitrure et d'autres couches de film, afin d'obtenir un film de surface d'outil de haute précision.
Pour le revêtement décoratif, les films décoratifs TiN et ZrN peuvent d'abord être déposés par revêtement à arc cathodique, puis dopés avec du métal à l'aide de cibles magnétron, et l'effet de dopage est très bon.
(2) Combinaison des techniques de revêtement ionique par arc cathodique à double plan et à colonne. Le dispositif est présenté ci-dessous. Il utilise la technologie avancée de double cible. Lorsque deux cibles jumelles jumelles sont connectées à une alimentation moyenne fréquence, cela permet non seulement de surmonter l'empoisonnement de la cible par pulvérisation cathodique CC, les incendies et autres inconvénients, mais aussi de déposer des films d'oxyde d'Al2O3 et de SiO2, augmentant ainsi la résistance à l'oxydation des pièces revêtues. La cible multi-arcs colonnaire installée au centre de la chambre à vide peut être en Ti ou en Zr. Non seulement elle permet de conserver les avantages d'un taux de dissociation et de dépôt multi-arcs élevé, mais elle permet également de réduire efficacement les « gouttelettes » lors du dépôt de cibles multi-arcs à petit plan. Elle permet de déposer et de préparer des films métalliques et composites à faible porosité. L'utilisation d'Al et de Si comme matériaux cibles pour les cibles magnétron planaires jumelles installées en périphérie permet de déposer et de préparer des films métallo-céramiques d'Al2O3 ou de SiO2. De plus, plusieurs petits plans de source d'évaporation multi-arc peuvent être installés en périphérie, le matériau cible pouvant être du Cr ou du Ni, et des films métalliques et composites multicouches peuvent être déposés et préparés. Cette technologie de revêtement composite offre ainsi de multiples applications.
Date de publication : 08/11/2022