L'equipaggiu di rivestimentu cumpostu di sputtering magnetron è rivestimentu ionicu multi-arcu catodicu pò travaglià separatamente è simultaneamente; pò esse depositatu è preparatu film metallicu puru, film cumpostu metallicu o film cumpostu; pò esse un unicu stratu di film è un film cumpostu multistratu.
I so vantaghji sò i seguenti:
Ùn solu combina i vantaghji di diversi rivestimenti ionici è tene contu di a preparazione è a deposizione di film sottili per diversi campi d'applicazione, ma permette ancu a deposizione è a preparazione di film monolitici multistrati o film compositi multistrati in a stessa camera di rivestimentu à vuoto à tempu.
L'applicazioni di i strati di film depositati sò largamente aduprate, e so tecnulugie sò in una varietà di forme, e tipiche sò e seguenti:
(1) U cumpostu di sputtering di magnetron fora di equilibriu è tecnulugia di placcatura ionica catodica.
U so dispusitivu hè mostratu cusì. Hè un equipagiu di rivestimentu cumpostu di bersagliu magnetron culunnare è rivestimentu ionicu à arcu catodicu planare, chì hè adattatu sia per u film cumpostu di rivestimentu di strumenti sia per u rivestimentu di film decorativu. Per u rivestimentu di strumenti, u rivestimentu ionicu à arcu catodicu hè adupratu prima per u rivestimentu di u stratu di basa, è dopu u bersagliu magnetron culunnare hè adupratu per a deposizione di nitruri è altri strati di film per ottene un film superficiale di l'utensili di trasfurmazione di alta precisione.
Per u rivestimentu decorativu, i filmi decorativi di TiN è ZrN ponu esse depositati prima per rivestimentu à arcu catodicu, è dopu drogati cù metallu aduprendu bersagli magnetron, è l'effettu di doping hè assai bonu.
(2) U cumpostu di magnetron à dui piani è tecniche di rivestimentu di ioni d'arcu catodicu à colonna. U dispusitivu hè mostratu cum'è quì sottu. Hè adupratu a tecnulugia avanzata di bersagli gemelli, quandu dui bersagli gemelli affiancati sò culligati à l'alimentazione à media frequenza, micca solu supera l'avvelenamentu di u bersagliu di sputtering DC, u focu è altri inconvenienti; è pò deposità Al203, film di qualità d'ossidu SiO2, in modu chì a resistenza à l'ossidazione di e parti rivestite sia aumentata è migliurata. Bersagliu multi-arcu colonnare installatu in u centru di a camera à vuoto, u materiale di u bersagliu pò esse adupratu Ti è Zr, micca solu per mantene i vantaghji di l'alta velocità di dissociazione multi-arcu, a velocità di deposizione, ma pò ancu riduce efficacemente e "goccioline" in u prucessu di deposizione di bersagli multi-arcu à picculi piani, pò deposità è preparà una bassa porosità di film metallichi, film cumposti. Se Al è Si sò aduprati cum'è materiali di bersagliu per i bersagli magnetron à dui piani installati in periferia, i film metallo-ceramici Al203 o Si0 ponu esse depositati è preparati. Inoltre, parechji picculi piani di fonte d'evaporazione multi-arcu ponu esse installati à a periferia, è u so materiale di destinazione pò esse Cr o Ni, è i filmi metallichi è i filmi cumposti multistratu ponu esse depositati è preparati. Dunque, sta tecnulugia di rivestimentu cumpostu hè una tecnulugia di rivestimentu cumpostu cù parechje applicazioni.
Data di publicazione: 8 di nuvembre di u 2022