ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং এবং ক্যাথোডিক মাল্টি-আর্ক আয়ন আবরণের কম্পোজিট আবরণ সরঞ্জামগুলি পৃথকভাবে এবং একই সাথে কাজ করতে পারে; বিশুদ্ধ ধাতব ফিল্ম, ধাতব যৌগিক ফিল্ম বা কম্পোজিট ফিল্ম জমা এবং প্রস্তুত করা যেতে পারে; ফিল্মের একটি স্তর এবং একটি বহু-স্তর যৌগিক ফিল্ম হতে পারে।
এর সুবিধাগুলি নিম্নরূপ:
এটি কেবল বিভিন্ন আয়ন আবরণের সুবিধাগুলিকে একত্রিত করে না এবং প্রয়োগের বিভিন্ন ক্ষেত্রের জন্য পাতলা ফিল্মের প্রস্তুতি এবং জমা করার বিষয়টি বিবেচনা করে না, বরং একই ভ্যাকুয়াম আবরণ চেম্বারে একাধিক স্তরের মনোলিথিক ফিল্ম বা বহু-স্তরীয় যৌগিক ফিল্ম জমা এবং প্রস্তুত করার অনুমতি দেয়।
জমা হওয়া ফিল্ম স্তরগুলির প্রয়োগ ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। এর প্রযুক্তিগুলি বিভিন্ন ধরণের, সাধারণগুলি নিম্নরূপ:
(১) ভারসাম্যহীন ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং এবং ক্যাথোডিক আয়ন প্লেটিং প্রযুক্তির যৌগ।
এর যন্ত্রটি নিম্নরূপ দেখানো হয়েছে। এটি কলামার ম্যাগনেট্রন টার্গেট এবং প্ল্যানার ক্যাথোডিক আর্ক আয়ন আবরণের একটি যৌগিক আবরণ সরঞ্জাম, যা টুল আবরণ যৌগিক ফিল্ম এবং আলংকারিক ফিল্ম আবরণ উভয়ের জন্যই উপযুক্ত। টুল আবরণের জন্য, ক্যাথোডিক আর্ক আয়ন আবরণ প্রথমে বেস লেয়ার আবরণের জন্য ব্যবহার করা হয়, এবং তারপরে কলামার ম্যাগনেট্রন টার্গেটটি নাইট্রাইড এবং অন্যান্য ফিল্ম স্তর জমা করার জন্য ব্যবহার করা হয় যাতে একটি উচ্চ-নির্ভুল প্রক্রিয়াকরণ সরঞ্জাম পৃষ্ঠ ফিল্ম পাওয়া যায়।
আলংকারিক আবরণের জন্য, TiN এবং ZrN আলংকারিক ফিল্মগুলি প্রথমে ক্যাথোডিক আর্ক আবরণ দ্বারা জমা করা যেতে পারে, এবং তারপর ম্যাগনেট্রন লক্ষ্যবস্তু ব্যবহার করে ধাতু দিয়ে ডোপ করা যেতে পারে, এবং ডোপিং প্রভাব খুব ভাল।
(২) টুইন প্লেন ম্যাগনেট্রন এবং কলাম ক্যাথোড আর্ক আয়ন আবরণ কৌশলের যৌগ। ডিভাইসটি নিম্নরূপ দেখানো হয়েছে। এটি উন্নত টুইন টার্গেট প্রযুক্তি ব্যবহার করে, যখন দুটি পাশাপাশি টুইন টার্গেট মাঝারি ফ্রিকোয়েন্সি পাওয়ার সাপ্লাইয়ের সাথে সংযুক্ত থাকে, এটি কেবল ডিসি স্পুটারিং, আগুন এবং অন্যান্য ত্রুটিগুলির লক্ষ্য বিষক্রিয়া কাটিয়ে ওঠে না; এবং Al203, SiO2 অক্সাইড মানের ফিল্ম জমা করতে পারে, যাতে প্রলিপ্ত অংশগুলির জারণ প্রতিরোধ ক্ষমতা বৃদ্ধি এবং উন্নত হয়। ভ্যাকুয়াম চেম্বারের কেন্দ্রে স্থাপিত কলামার মাল্টি-আর্ক টার্গেট, লক্ষ্য উপাদানটি Ti এবং Zr ব্যবহার করা যেতে পারে, কেবল উচ্চ মাল্টি-আর্ক বিচ্ছিন্নতা হার, জমা হারের সুবিধা বজায় রাখতে নয়, বরং ছোট প্লেন মাল্টি-আর্ক টার্গেট জমার প্রক্রিয়ায় "ফোঁটা" কার্যকরভাবে কমাতে পারে, ধাতব ফিল্ম, যৌগিক ফিল্মের কম ছিদ্র জমা এবং প্রস্তুত করতে পারে। যদি Al এবং Si পেরিফেরিতে ইনস্টল করা টুইন প্ল্যানার ম্যাগনেট্রন টার্গেটের জন্য লক্ষ্য উপকরণ হিসাবে ব্যবহার করা হয়, তাহলে Al203 বা Si0 ধাতব-সিরামিক ফিল্ম জমা এবং প্রস্তুত করা যেতে পারে। এছাড়াও, পেরিফেরিতে মাল্টি-আর্ক বাষ্পীভবন উৎসের একাধিক ছোট প্লেন স্থাপন করা যেতে পারে এবং এর লক্ষ্য উপাদান Cr বা Ni হতে পারে এবং ধাতব ফিল্ম এবং মাল্টিলেয়ার কম্পোজিট ফিল্ম জমা করে প্রস্তুত করা যেতে পারে। অতএব, এই কম্পোজিট লেপ প্রযুক্তি একাধিক অ্যাপ্লিকেশন সহ একটি কম্পোজিট লেপ প্রযুক্তি।
পোস্টের সময়: নভেম্বর-০৮-২০২২