Thevakum kaplamaMakine prosesi şu şekilde ayrılır: vakum buharlaştırma kaplama, vakum püskürtme kaplama ve vakum iyon kaplama.
1、Vakum buharlaştırma kaplaması
Vakum koşulları altında, metal, metal alaşımı vb. gibi malzemeyi buharlaştırın ve ardından bunları alt tabaka yüzeyine biriktirin, buharlaştırma kaplama yöntemi genellikle direnç ısıtmasını kullanır ve ardından kaplama malzemesinin elektron ışını bombardımanı, bunların gaz fazına buharlaştırılmasını sağlar, ardından alt tabaka yüzeyine biriktirilir, tarihsel olarak, vakum buhar biriktirme, PVD yönteminde kullanılan daha eski teknolojidir.
2、Püskürtme kaplama
Gaz, (Ar) dolu vakum koşulları altında bir kızdırma deşarjına tabi tutulur. Bu anda argon (Ar) atomları azot iyonlarına (Ar) dönüşür. İyonlar elektrik alanının kuvvetiyle hızlandırılır ve kaplama malzemesinden yapılmış olan katot hedefini bombardıman eder, hedef püskürtülür ve alt tabaka yüzeyine biriktirilir. Genellikle kızdırma deşarjı ile elde edilen püskürtme kaplamasındaki olay iyonları 10-2Pa ile 10Pa aralığındadır. Bu nedenle, püskürtülen parçacıklar alt tabakaya doğru uçarken vakum odasındaki gaz molekülleriyle kolayca çarpışır, bu da hareket yönünün rastgele olmasını ve biriktirilen filmin düzgün olmasını sağlar.
3、İyon kaplama
Vakum koşulları altında, Vakum koşulları altında, kaplama malzemesi atomlarını iyonlara kısmen iyonlaştırmak için belirli bir plazma iyonizasyon tekniği kullanılır. Aynı zamanda, alt tabaka üzerinde negatif önyargılı olan birçok yüksek enerjili nötr atom üretilir. Bu şekilde, iyonlar ince bir film oluşturmak için derin bir negatif önyargı altında alt tabaka yüzeyine biriktirilir.
Gönderi zamanı: Mar-23-2023