Angvacuum coatingAng proseso ng makina ay nahahati sa: vacuum evaporation coating, vacuum sputtering coating at vacuum ion coating.
1, Vacuum evaporation coating
Sa ilalim ng kondisyon ng vacuum, gawin ang materyal na sumingaw, tulad ng metal, metal na haluang metal, atbp. pagkatapos ay i-deposito ang mga ito sa ibabaw ng substrate, ang paraan ng evaporation coating ay kadalasang gumagamit ng resistance heating, at pagkatapos ay ang pagbomba ng electron beam ng coating material, gawin itong evaporate sa gas phase, pagkatapos ay ideposito sa substrate surface, ayon sa kasaysayan, ang vacuum vapor deposition ay ang naunang pamamaraan na ginamit sa PVD na pamamaraan.
2, Sputtering coating
Ang gas ay sumasailalim sa isang glow discharge sa ilalim ng (Ar)-filled vacuum na mga kondisyonSa sandaling ito ang argon (Ar) atoms ion sa nitrogen ions (Ar), Ang mga ion ay pinabilis sa pamamagitan ng puwersa ng electric field，at bombard ang cathode target na gawa sa coating material, ang target ay bubuga at idedeposito sa substrate surface sa pamamagitan ng pag-iilaw sa ibabaw ng substrate. hanay ng 10-2pa hanggang 10Pa，Kaya ang mga sputtered particle ay madaling mabangga sa mga molekula ng gas sa vacuum chamber kapag lumilipad patungo sa substrate, na ginagawang random ang direksyon ng paggalaw at ang nakadeposito na pelikula ay madaling maging uniporme.
3, Ion coating
Sa ilalim ng mga kondisyon ng vacuum, Sa ilalim ng kondisyon ng vacuum, Gumamit ng isang tiyak na pamamaraan ng plasma ionization upang bahagyang ionise ang mga atomo ng materyal na patong sa mga ions. Kasabay nito, maraming mga high energy na neutral na atom ang ginawa ，na negatibong bias sa substrate. Sa ganitong paraan, ang mga ion ay idineposito sa ibabaw ng substrate sa ilalim ng isang malalim na negatibong bias upang bumuo ng isang manipis na pelikula.
Oras ng post: Mar-23-2023