Theвакуумное покрытиеМашинный процесс подразделяется на: нанесение покрытий методом вакуумного испарения, нанесение покрытий методом вакуумного распыления и нанесение покрытий методом вакуумного ионного напыления.
1. Покрытие методом вакуумного напыления
В условиях вакуума испаряют материал, например, металл, металлический сплав и т. д., а затем наносят его на поверхность подложки. Метод нанесения покрытия испарением часто заключается в использовании резистивного нагрева, а затем бомбардировки материала покрытия электронным лучом, в результате чего материал испаряется в газовую фазу, а затем наносится на поверхность подложки. Исторически вакуумное осаждение из паровой фазы является более ранней технологией, используемой в методе PVD.
2. Напыление покрытия
Газ подвергается воздействию тлеющего разряда в условиях вакуума, заполненного (Ar). В этот момент атомы аргона (Ar) превращаются в ионы азота (Ar). Ионы ускоряются силой электрического поля и бомбардируют катодную мишень, изготовленную из материала покрытия. Мишень распыляется и осаждаться на поверхности подложки. Падающие ионы в распыляемом покрытии, обычно получаемом с помощью тлеющего разряда, находятся в диапазоне от 10-2 Па до 10 Па. Поэтому распыляемые частицы легко сталкиваются с молекулами газа в вакуумной камере при полете к подложке, что делает направление движения случайным, а осажденную пленку легко однородной.
3. Ионное покрытие
В условиях вакуума используется определенная технология плазменной ионизации для частичной ионизации атомов материала покрытия в ионы. В то же время образуется множество нейтральных атомов с высокой энергией, которые отрицательно смещены на подложке. Таким образом, ионы осаждаются на поверхности подложки под глубоким отрицательным смещением, образуя тонкую пленку.
Время публикации: 23-03-2023