Thesalutan vakumproses mesin dibahagikan kepada: salutan penyejatan vakum, salutan sputtering vakum dan salutan ion vakum.
1、Salutan penyejatan vakum
Di bawah keadaan vakum, buat bahan tersejat，seperti logam, aloi logam, dan lain-lain kemudian masukkannya pada permukaan substrat, kaedah salutan penyejatan sering menggunakan pemanasan rintangan, dan kemudian pengeboman rasuk elektron bahan salutan, menjadikannya sejat ke dalam fasa gas, kemudian deposit pada permukaan substrat, dari segi sejarah, pemendapan wap vakum adalah kaedah terdahulu yang digunakan dalam PVD.
2、Salutan percikan
Gas tertakluk kepada nyahcas cahaya di bawah keadaan vakum yang diisi (Ar) Pada masa ini ion atom argon (Ar) menjadi ion nitrogen (Ar), Ion-ion tersebut dipercepatkan oleh daya medan elektrik，dan mengebom sasaran katod yang diperbuat daripada bahan salutan, sasaran akan terpancut keluar dan dimendapkan pada permukaan substrat secara amnya bercahaya Insiden bercahaya di permukaan substrat. julat 10-2pa hingga 10Pa，Jadi zarah yang terpercik mudah berlanggar dengan molekul gas dalam ruang vakum apabila terbang ke arah substrat, menjadikan arah gerakan rawak dan filem yang dimendapkan mudah menjadi seragam.
3、Salutan ion
Di bawah keadaan vakum, Di bawah keadaan vakum, Menggunakan teknik pengionan plasma tertentu untuk mengionkan sebahagian atom bahan salutan menjadi ion. Pada masa yang sama banyak atom neutral tenaga tinggi dihasilkan ，yang berat sebelah negatif pada substrat. Dengan cara ini, ion dimendapkan pada permukaan substrat di bawah pincang negatif yang mendalam untuk membentuk filem nipis.
Masa siaran: Mac-23-2023